[发明专利]一种高性能陶瓷制品表面处理设备

权利要求书

1.一种高性能陶瓷制品表面处理设备，包括主机体，其特征在于：所述主机体内开设有抛光腔，所述抛光腔与外界连通设置，所述抛光腔内设有可以用来初级抛光的初次抛光机构，所述抛光腔的右侧开设有分离腔，所述分离腔和所述抛光腔可连通设置，所述分离腔内设有分离机构，所述分离机构可以把所述初次抛光机构抛光完后排出的产品、磨料和废液进行分离，所述分离腔下侧靠右位置开设有振动腔，所述振动腔内设有振动机构，所述振动机构可以把所述分离机构分离出来的产品进行排序，排序后可按次序一个个单独流转至下一个工序；

所述振动腔的左侧开设有抛亮腔，所述抛亮腔与所述振动腔连通设置，所述抛亮腔的上侧开设有光亮剂储存腔，所述光亮剂储存腔可与所述抛亮腔连通设置，所述光亮剂储存腔内装有光亮剂，所述光亮剂储存腔内还设有按压机构，所述按压机构可以把所述光亮剂储存腔内的光亮剂间断式滴入所述抛亮腔内的产品上，所述抛亮腔内设有二次抛光机构，所述二次抛光机构可以二次抛光抛亮产品，所述抛亮腔的左侧开设有动力腔，所述动力腔内设有可以给初次抛光机构、分离机构、振动机构、按压机构和二次抛亮机构提供动力的动力机构。

2.根据权利要求1所述的一种高性能陶瓷制品表面处理设备，其特征在于：所述初次抛光机构包括抛光桶，所述抛光桶右侧开口设置，所述抛光桶转动设置在所述抛光腔的左壁上，所述抛光腔的左端面上固设有短轴，所述短轴向左延伸贯穿所述抛光腔的左侧内壁，并伸入所述动力腔内，且其左侧末端固设有第一锥齿轮，所述抛光桶内开设有圆柱腔，所述圆柱腔的上侧端壁内设有封闭盖，所述封闭盖可打开或封闭，所述抛光桶的右端铰接有盖板，可用来封闭或打开所述圆柱腔，所述抛光腔与所述分离腔之间开设有滑动腔，所述滑动腔内滑动设有滑动板，所述滑动板与所述盖板抵接，且所述滑动板与所述盖板滑动配合，所述滑动腔的左壁内固嵌有第一电机，所述第一电机与所述滑动板动力连接。

3.根据权利要求2所述的一种高性能陶瓷制品表面处理设备，其特征在于：所述分离机构包括开设在上所述分离腔下侧靠左位置处的储存腔，所述储存腔与所述分离腔连通设置，且两者之间安装有过滤网，所述分离腔的后侧壁上转动设有第一带轮轴和第一从动轮，所述第一带轮轴的外周上固设有第一带轮，所述第一带轮与所述第一从动轮之间传动设有第一皮带，所述第一皮带的端面上固设有输送块，所述分离腔下侧靠右位置开设有缓冲腔，所述缓冲腔连通所述分离腔与所述振动腔，所述第一带轮轴的外周端壁内固设有加热层。

4.根据权利要求3所述的一种高性能陶瓷制品表面处理设备，其特征在于：所述振动机构包括滑动设置在所述振动腔的两侧壁上的振动盘，所述缓冲腔与所述振动腔连通设置，所述缓冲腔中的产品可落入所述振动盘内中心位置，所述振动盘的中心位置高于边缘位置，所述振动盘内的通道大小与所需抛光产品的大小一致，所述振动盘左侧出口与所述抛亮腔连通设置，所述振动腔的底壁上滑动设有滑动盘，所述滑动盘上下滑动设置，所述滑动盘与所述振动盘之间安装有第一弹簧，所述振动腔下侧开设有转动腔，所述转动腔的后壁上转动设有转轴，所述转轴的外周上固设有扇形摆盘。

5.根据权利要求4所述的一种高性能陶瓷制品表面处理设备，其特征在于：所述抛亮腔的后壁上转动设有第二带轮轴，所述第二带轮轴的外周上固设有第二带轮，所述第二带轮的左侧水平位置转动设有第二从动轮，所述第二从动轮与所述第二带轮之间传动连接有第二皮带，所述第二皮带位于所述振动盘出口下侧。

6.根据权利要求5所述的一种高性能陶瓷制品表面处理设备，其特征在于：所述按压机构包括两组滑动设置在所述光亮剂储存腔内壁上的活塞，两组所述活塞上下对称设置，且其之间安装有第二弹簧，所述光亮剂储存腔的上侧开设有圆形腔，所述圆形腔的后壁上转动设有细轴，所述细轴的外周上固设有摆臂，所述光亮剂储存腔的底壁上固设有阻尼阀。