[发明专利]一种用于低场核磁共振双平面型梯度线圈设计的方法在审

专利信息
申请号: 201910486731.4 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110162926A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 胡剑雄;臧波 申请(专利权)人: 江苏麦格迈医学科技有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;G01R33/34
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 谢肖雄
地址: 225000 江苏省扬州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 梯度线圈 双平面型 低场核磁共振 电流密度分布 布线轨迹 尺寸线圈 传统设计 等值线图 矩阵方程 求解矩阵 数值计算 傅里叶 目标场 再利用 求解 推导 绘制 改进
【说明书】:

发明涉及一种用于低场核磁共振双平面型梯度线圈设计的方法,该方法由经典目标场法改进而来,将电流密度分布限制在有限表面内,直接对电流密度进行傅里叶展开,然后将梯度线圈设计问题归结于求解矩阵方程问题,对矩阵方程进行求解,即可得到双平面型的电流密度系数,再利用流函数的等值线图绘制出梯度线圈的布线轨迹。本发明与传统设计方法相比,解决了有限尺寸线圈问题,推导更为简单,且更适合在计算机上进行数值计算。

技术领域

本发明涉及一种用于低场核磁共振双平面型梯度线圈设计的方法。

背景技术

随着核磁共振谱仪在生物、化学、以学、质量控制等领域的广泛应用,低场永磁体作为核磁共振谱仪主磁体已经成为一个重要的研究方向,相比于传统的超导磁体,不需要低温设备,体积质量较小,成本低廉,便于携带;而与圆柱型永磁体相比,双平面设计更加简单。

梯度磁场涉及磁场的一阶偏导数,用于产生组织成像额定空间编码,其性能决定了核磁共振成像的图像质量。在核磁共振系统中,为了决定图像中质子的空间位置信息,磁场强度必须在成像空间内以某种可控的方式变化。质子的进动频率主要由主磁场强度决定,通过施加线性变化的梯度磁场,可以很容易得出质子的空间信息。此外,梯度磁场也用于扩散、流动补偿、速度编码、破坏相位、自补偿相位等功能。梯度线圈的高阶偏导数也可以用来补偿磁场的非均匀性。随着核磁共振技术的迅速发展,各种新型扫描序列和图像重建方法的提出,对梯度线圈的性能也提出了更高的要求。

目前核磁共振梯度线圈设计主要分为规则分离绕线方法和分布绕线方法。规则分离绕线方法是预先确定线圈形状,通过数值算法调节分布在框架上的各绕线位置,使得目标区域内所产生的磁场达到预期值。而分布绕线方法与规则分离绕线方法相比,最大的区别在于,不需要预知线圈结构,以逆向求解的方式通过目标区域内的期望磁场分布倒推线圈结构。围绕该求解思想,延伸出矩阵求逆法、流函数法、目标场法、谐波系数法、等效偶极子法等,每种方法各有优缺点,需根据磁体不同形状,选择最佳的设计方法。

发明内容

为了解决有限尺寸梯度线圈设计问题,本发明提供一种用于低场核磁共振双平面型梯度线圈设计的方法,直接对电流密度进行傅里叶展开,推导简单且适合进行数值计算。

改进目标场设计方法的步骤是:1.通过傅里叶展开得到目标区域磁场分布于线圈面连续电流分布之间关系式;2.通过在目标区域内设置一系列目标点和相应的磁感应强度值的方式来规定目标磁场;3.将步骤2中设定的目标参数代入第一步得到的关系是,计算得出线圈面连续电流分布;4.由步骤3得到的电流分布计算线圈面流函数;5.通过作等高线的方法将流函数离散化得到实际线圈导线的位置。

进一步的,将数据导入到solidworks三维软件中,将离散的线圈在适当位置切口后,依次首尾两端于邻近环线首尾端正确串联形成一个连续线圈。将连续线圈模型再导入到comsol多维物理场仿真软件中,通上电流剖分网格,进行线圈仿真。最后,通过双面覆铜印刷电路板依次实现环线首尾两端于邻近环线首尾相串联,形成一个线圈,即每个线圈只有两个引出端,分别接电流源的正负极。

本发明与传统设计方法相比,解决了有限尺寸线圈问题,推导更为简单,且更适合在计算机上进行数值计算

附图说明

图1为本发明的原理示意图。

图2为本发明的双平面梯度线圈示意图

图3为本发明的流函数等值线图。

图4为本发明的solidworks三维实际示意图。

图5为本发明的comsol仿真结果示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步详细说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏麦格迈医学科技有限公司,未经江苏麦格迈医学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910486731.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top