[发明专利]边缘吹扫装置、基座系统及工艺腔室

权利要求书

1.一种边缘吹扫装置，用于吹扫承载于基座上的基片的边缘处，其特征在于，所述边缘吹扫装置包括：吹扫通道和气源；其中，

所述吹扫通道的出气口沿所述基座的周向设置，且所述出气口的出气方向相对于竖直方向朝向所述基座倾斜；

所述气源用于向所述吹扫通道提供吹扫气体。

2.根据权利要求1所述的边缘吹扫装置，其特征在于，所述出气口的出气方向沿水平方向；或者，所述出气口的出气方向相对于竖直方向向上倾斜或者向下倾斜。

3.根据权利要求1或2所述的边缘吹扫装置，其特征在于，还包括：进气管路；

所述进气管路连通所述吹扫通道和所述气源，用于将来自所述气源的吹扫气体输送至所述吹扫通道中。

4.根据权利要求3所述的边缘吹扫装置，其特征在于，还包括：

温控结构；

所述温控结构套置在所述进气管路上，用于控制所述进气管路中的吹扫气体的温度。

5.根据权利要求4所述的边缘吹扫装置，其特征在于，所述温控结构包括：温控管和控温源，其中：

所述控温源用于向所述控温管提供控温媒介，所述温控管套置在所述进气管路上，且所述温控管内设置控温媒介输入管路和控温媒介输出管路。

6.根据权利要求4所述的边缘吹扫装置，其特征在于，所述温控结构包括：套置在所述进气管路上的控温带。

7.一种基座系统，其特征在于，包括：基座以及权利要求1-6任一项所述的边缘吹扫装置；其中，所述基座用于承载基片，所述边缘吹扫装置用于吹扫所述基片的边缘处。

8.根据权利要求7所述的基座系统，其特征在于，还包括：环绕在所述基座周围的边缘环；

所述边缘环的内周壁与所述基座的外周壁之间的环形间隙形成所述吹扫通道。

9.根据权利要求8所述的基座系统，其特征在于，所述边缘环包括环形本体和设置在其顶部且朝向所述基座的环形凸台，所述环形凸台的下表面与竖直方向成角度设置。

10.根据权利要求9所述的基座系统，其特征在于，所述环形凸台下端面的内边沿不高于所述基片的上表面。

11.根据权利要求10所述的基座系统，其特征在于，所述环形凸台的下表面、上表面均与竖直方向成90度角；

所述环形凸台的下表面低于所述基片的上表面，所述环形凸台的上表面高于所述基片的上表面。

12.根据权利要求11所述的基座系统，其特征在于，所述环形凸台的上表面与所述基片的上表面之间的高度差的取值范围在1.5mm～5mm。

13.根据权利要求7所述的基座系统，其特征在于，还包括环绕在所述基座周围的第一边缘环与第二边缘环，所述吹扫通道设置在所述第一边缘环与第二边缘环之间，所述吹扫通道的出气口位于不高于所述基片的上表面的位置处。

14.根据权利要求7-13任意一项所述的基座系统，其特征在于，所述基座的外径大于所述基片的直径。

15.根据权利要求14所述的基座系统，其特征在于，在所述基座的底部和侧壁上设置有隔热件和/或隔热涂层。

16.一种工艺腔室，其内设置有用于承载基片的基座，其特征在于，还包括权利要求1-6任意一项所述的边缘吹扫装置，所述边缘吹扫装置用于吹扫所述基片的边缘处。