[发明专利]一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置

权利要求书

1.一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和安装有阴极辊的工作台(1)，所述工作台(1)的端均设置有清洁水箱(2)，工作台(1)两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置(3)，所述工作台(1)的两侧还设置有驱动按压装置(3)转动的驱动组件(4)，引导轮组件设置在按压装置(3)的侧部，清洁水箱(2)的上方的一侧设置有导入轮(5)，清洁水箱(2)的另一侧设置有导出轮(6)，清洁水箱(2)内还设置有多个按压轮(7)，清洁装置包括有清洁组件(8)和水平移动组件(9)，所述水平移动组件(9)设置在清洁水箱(2)的侧壁上，水平移动组件(9)的输出端上竖直设置有安装杆(10)，所述清洁组件(8)安装在安装杆(10)上，并且清洁组件(8)的输出端延伸至清洁箱内；

所述引导轮组件包括有第一引导轮(25)机构和第二引导轮(26)机构，所述第一引导轮(25)机构包括有第三安装座(23)、第二转轴(24)和第一引导轮(25)，第三安装座(23)设置在工作台(1)上，第二转轴(24)水平轴接在第三安装座(23)上，第一引导轮(25)固定设置在第二转轴(24)上，第二引导轮(26)机构包括有第二引导轮(26)和竖直轴接在工作台(1)上的第三转轴(27)，第二引导轮(26)固定安装在第三转轴(27)上，所述第一引导轮(25)、第二引导轮(26)、导入轮(5)、导出轮(6)和按压轮(7)均设置有移动槽(28)。

2.根据权利要求1所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：所述按压装置(3)包括有第一转轴(11)、按压杆(12)、按压滚轮和多个设置在工作台(1)上的第一安装座(13)，第一转轴(11)水平轴接在第一安装座(13)上，并且第一转轴(11)的延伸方向与阴极辊的轴线的延伸方向平行，所述第一转轴(11)的两端均设置有伸缩机构，所述按压杆(12)与对应的伸缩机构的输出端固定连接，按压滚轮轴接在按压杆(12)的端部。

3.根据权利要求2所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：所述伸缩机构包括有第一固定杆(14)、第一滑竿(15)、第一安装板(16)、第一电机(17)和第一齿轮(18)，所述第一固定杆(14)水平设置在第一转轴(11)的端部，第一滑竿(15)滑动连接在第一固定杆(14)的侧部，第一安装板(16)设置在第一固定杆(14)上，第一电机(17)安装在第一安装板(16)上，第一齿轮(18)与第一电机(17)的输出端固定连接，第一滑竿(15)的侧部还设置有第一齿条，所述第一齿轮(18)与第一齿轮(18)啮合连接，所述按压杆(12)固定连接在第一滑竿(15)的端部。

4.根据权利要求3所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：所述驱动组件(4)包括有螺纹杆(19)、第二电机(20)和对称设置在工作台(1)上的第二安装座(21)，所述螺纹杆(19)轴接在第二安装座(21)上，并且螺纹杆(19)的轴线与第一转轴(11)的轴线垂直设置，第二电机(20)固定设置在工作台(1)上，并且螺纹杆(19)的一端与第二电机(20)的输出端固定连接，第一转轴(11)上还固定安装有第二齿轮(22)，所述第二齿轮(22)与螺纹杆(19)啮合连接。

5.根据权利要求4所述的一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：所述清洁水箱(2)内还设置有连接板(29)和多个沿水平方向延伸的伸缩套杆(30)，连接板(29)设置在伸缩套杆(30)的端部，伸缩套杆(30)上还套设有伸缩弹簧(31)，所述按压轮(7)均轴接在连接板(29)上，并且按压轮(7)的轴线沿水平方向延伸，清洁水箱(2)内还设置有驱动连接板(29)振动的微型振动机构，清洁水箱(2)内还设置有将微型振动机构、连接板(29)和伸缩套杆(30)保护在内的保护箱。