[发明专利]一种OLED显示器件及其制备方法

权利要求书

1.一种OLED显示器件，其定义有第一显示区以及第二显示区，其特征在于，包括：

基板；

功能层，所述功能层设置于所述基板上；

阳极，所述阳极间隔设置于所述功能层上；

像素定义层，所述像素定义层设置于相邻所述阳极之间的功能层上；

其中位于所述第二显示区的所述像素定义层包括第一像素定义层及第二像素定义层；

第一隔离柱，所述第一隔离柱设置于所述第一像素定义层上；

发光层，所述发光层设置于所述第一显示区的像素定义层、第二显示区的像素定义层、第一隔离柱以及阳极上；

阴极，所述阴极设置于所述发光层上，所述第二像素定义层上的阴极上表面局部向下凹陷直至所述发光层底面形成凹槽。

2.根据权利要求1所述的OLED显示器件，其特征在于，相邻两个所述第一像素定义层之间设置有1个所述第二像素定义层。

3.根据权利要求1所述的OLED显示器件，其特征在于，相邻两个所述第一像素定义层之间设置有2个以上数量的所述第二像素定义层。

4.根据权利要求1所述的OLED显示器件，其特征在于，所述第一显示区的所述像素定义层上均设有第一隔离柱。

5.根据权利要求1所述的OLED显示器件，其特征在于，还包括：

封装层，所述封装层设置于所述阴极以及所述凹槽上。

6.根据权利要求5所述的OLED显示器件，其特征在于，所述封装层包括：

第一无机封装层，所述第一无机封装层设置于所述阴极上以及所述凹槽内；

有机封装层，所述有机封装层设置于所述第一无机封装层上；以及

第二无机封装层，所述第二无机封装层设置于所述有机封装层上。

7.根据权利要求6所述的OLED显示器件，其特征在于，所述第一无机封装层的厚度范围为10nm-2μm。

8.一种制备权利要求1所述的OLED显示器件的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S1，将待制备的OLED显示器件定义有第一显示区以及第二显示区，提供一基板，在所述基板上设置功能层，并在所述功能层上间隔设置阳极，在相邻所述阳极之间的功能层上设置像素定义层，其中位于所述第二显示区的所述像素定义层包括第一像素定义层及第二像素定义层；

步骤S2，在所述第一像素定义层上设置第一隔离柱，在所述第二像素定义层上设置第二隔离柱；

步骤S3，在所述像素定义层、第一隔离柱、第二隔离柱以及阳极上设置发光层，然后在所述发光层上设置阴极；

步骤S4,将第二像素定义层上的第二隔离柱及其上方设置的发光层、阴极刻蚀掉，在所述第二像素定义层上的阴极上表面局部向下凹陷直至所述发光层底面形成凹槽。

9.根据权利要求8所述的OLED显示器件的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，在相邻两个所述第一像素定义层之间设置有1个所述第二像素定义层。

10.根据权利要求8所述的OLED显示器件的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，在相邻两个所述第一像素定义层之间设置有2个以上数量的所述第二像素定义层。