[发明专利]具有静电力抑制的基板承载装置

权利要求书

1.一种基板承载装置，用于等离子体工艺，其特征在于，包含：

一盘体，由陶瓷材料成形且具有用于承载一基板的一承载面，该承载面上提供有多个凸起，该多个凸起的每一个具有自承载面延伸的一高度及位于顶部且用于接触该基板的一接触面，其中该多个凸起的接触面的面积总和为所述基板的总面积的一百分比范围，从0.01％至2.0％，每个凸起具有一直径，该直径的范围为0.1mm至5.7mm，每个凸起的高度范围为20μm至100μm。

2.按照权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于：该盘体还具有一环，包围该承载面，该环具有高于该多个凸起的一顶部，且该环具有一滑落面自该环的顶部延伸至该承载面。

3.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：每个凸起的直径为1.6mm。

4.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起的数量选自7至333个的一范围。

5.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起根据该承载面的一中心所定义的一同心圆轨迹而排列。

6.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起根据该承载面的一中心所定义的多个半径位置而排列。

7.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起为等间距排列。

8.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起分为一第一数组和包围该第一数组的一第二数组，其中该多个凸起的第一数组的任一个、与其相邻的一个以及与前两个相邻的另一个彼此等距离排列，该多个凸起的第二数组根据该承载面的一中心所定义的一同心圆轨迹而排列。

9.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该滑落面具有至少一倾斜面。

10.按照权利要求9所述的基板承载装置，其特征在于：该滑落面具有一第一倾斜面和一第二倾斜面，该第一倾斜面低于该第二倾斜面，该第一倾斜面与该承载面定义一第一夹角，该第二倾斜面与该承载面定义一第二夹角，该第一夹角小于该第二夹角。

11.按照权利要求10所述的基板承载装置，其特征在于：该第一倾斜面的总面积小于该第二倾斜面的总面积。

12.按照权利要求10所述的基板承载装置，其特征在于：该第一倾斜面的总面积大于该第二倾斜面的总面积。

13.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：该滑落面具有一弧面。

14.按照权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于：所述承载面的面积是所述基板面积的0.85至1.10倍。

15.按照权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起的接触面的面积总和为所述基板的总面积的百分比范围，从0.012％至0.253％。

16.按照权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于：该多个凸起的数量为37个，各凸起的高度为25μm，直径为1.6mm，该多个凸起的接触面的面积总和为所述基板的总面积的0.1％。