[发明专利]一种制备Janus结构的悬空石墨烯支撑膜的方法有效

专利信息
申请号: 201910237780.4 申请日: 2019-03-27
公开(公告)号: CN109824046B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 彭海琳;郑黎明;邓兵;王雅妮 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;C01B32/186;G01N23/2202;G01N23/2251;G01N23/2204
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 janus 结构 悬空 石墨 支撑 方法
【说明书】:

发明公开了一种制备Janus结构的悬空石墨烯支撑膜的方法。该方法包括:通过化学气相沉积法在金属基底表面生长石墨烯薄膜,再制备悬空石墨烯薄膜,最后将所得悬空石墨烯置于等离子体清洗机中,对石墨烯表面进行功能化处理,得到亲疏水性可控、完整度高(80%)的Janus石墨烯支撑膜。该制作方法工艺简单,一步等离子体处理便能够调控石墨烯的亲疏水性;并能通过增加掩模板制备图案化的Janus悬空石墨烯支撑膜。所得石墨烯支撑膜接触角范围广(50‑90°),涵盖了商用无定形碳电镜支撑膜的接触角范围(60‑80°),有利于生物蛋白、纳米颗粒等水溶性样品的有效负载和高分辨成像。

技术领域

本发明属于材料领域,涉及一种制备Janus结构的悬空石墨烯支撑膜的方法。

背景技术

石墨烯具有优异的电学、力学、光学性质,在支撑膜和过滤膜等领域具有良好的应用前景。在透射电镜支撑膜领域中,石墨烯是一种理想的支撑膜。规则排列的碳单原子层几乎不会对电镜表征引入背景干扰,甚至能为单原子和有机小分子和提供极高的衬度。此外,石墨烯良好的导电性和导热性能够降低电子对样品的辐射损伤,高的机械强度保证了有效地负载样品。但是目前制得的石墨烯支撑膜往往是疏水的,这是因为在石墨烯薄膜制备、转移、储存过程中,石墨烯表面引入了污染物造成的。疏水的石墨烯表面往往不能有效负载水相溶液里面的样品,大大限制了其在电镜支撑膜中的广泛应用,因此需要对石墨烯表面进行亲水化处理。

发明内容

本发明的目的是提供一种制备Janus结构的悬空石墨烯支撑膜的方法。该方法能够调控石墨烯支撑膜上表面的亲疏水性,同时保证石墨烯下表面结构的完整性,从而使得Janus悬空石墨烯支撑膜兼具两亲性、高导电性、高导热性和高机械强度。

本发明提供的制备具有亲水性的石墨烯膜的方法,包括:

对悬空石墨烯薄膜的一面进行等离子体刻蚀,得到所述具有亲水性的石墨烯膜。

上述方法的等离子体刻蚀中,气源为空气、氧气、氮气、氩气、氢气或二氧化碳;

气体流量为0-30sccm,且不为0;具体为5sccm;

激发功率为10-500瓦;具体为80瓦;

刻蚀时间为0-60s,且不为0;具体为6-36s。

用等离子体对石墨烯表面进行功能化处理时,可通过加入具有图案的掩模板,使得功能化处理具有区域选择性,能够精确控制石墨烯表面部分区域被功能化,从而制得图案化的具有亲水性的石墨烯膜。

所述悬空石墨烯薄膜按照包括如下步骤的方法制得:

1)在金属基底的上下两个表面生长石墨烯薄膜;

2)制备悬空石墨烯薄膜。

具体的,所述步骤1)中,所述金属基底为过渡金属或过渡金属合金基底;所述过渡金属具体选自铜、镍、钼、金和钯中至少一种;所述过渡金属合金具体为铜镍合金或铜金合金;

所述金属基底的厚度为5-50μm;

所述石墨烯薄膜为单层石墨烯薄膜、双层石墨烯薄膜或少层石墨烯薄膜;所述少层石墨烯薄膜具体为2-5层石墨烯薄膜;

所述生长步骤中,生长方法为化学气相沉积法。

所述单层石墨烯薄膜的生长中,载气的流量为100-1000sccm;

退火条件为先在980℃-1050℃、50-500sccm氢气下退火0.5-8h,再在50-500sccm氩气下退火10-60min;

生长时间为2-5小时;

生长压强为100-1000Pa;

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