[发明专利]一种超深基坑围护结构平面渗漏检测方法

说明书

本发明公开了一种超深基坑围护结构平面渗漏检测方法，针对现有渗漏探测方法的缺陷，本发明利用电渗原理，在发生渗漏处的微弱离子运动进行高灵敏度的测量，来探测复杂地下结构的渗漏情况。在渗漏情况下，即便是轻微的渗漏，也会由于离子的运动，产生整个地层电场的变化，对于此变化，通过开发的多通道多传感器高精度量测系统，可以把握电场异常的位置，从而探得渗漏点。具体表现为本发明通过设置单一的传感器即可达到多个传感器的探测工效，并为其规划了行径路线，能够探测各个点位下围护结构的渗漏情况。无需布置多个传感器，一方面降低了施工人员的工作压力，省时省力，间接的尽快了工作效率；另一方面，无需购置多个传感器，降低成本支出。

技术领域

本发明属于基坑围护的检测，具体涉及了一种超深基坑围护结构平面渗漏检测方法

背景技术

基坑工程主要包括基坑支护体系设计与施工、土方开挖，是一项综合性很强的系统工程。它要求岩土工程和结构工程技术人员密切配合。基坑支护体系是临时结构，在地下工程施工完成后就不再需要。基坑是用来建筑建筑物的基础的，是方形或者比较接近方形；基坑是指底面积在27平方米以内(不是20)，且底长边小于三倍短边的为基坑。也就是说，一般定义深基坑为：底面积在27 平方米以内(不是20)，且底长边小于三倍短边，开挖深度超过5米(含5米) 或地下室三层以上(含三层)，或深度虽未超过5米，但地质条件和周围环境及地下管线特别复杂的工程。

深基坑的开挖成为岩土工程的一个重要课题。基坑围护体系，是一个土体、支护结构相互共同作用的有机体，由于周围建筑物及地下管道等因素的制约，对支护结构的安全性有了更高的要求。不仅要能保证基坑的稳定性及坑内作业的安全、方便，而且要使坑底和坑外的土体位移控制在一定范围内，确保邻近建筑物及市政设施正常使用。

在基坑降水过程中，止水帷幕施工质量的好坏直接影响着工程进度和施工人员的人身安全，所以需要对围护结构的渗漏情况进行探测。现有的基坑围护渗漏探测方法存在诸多的缺陷：

1、目前的围护结构检测方法或是不够准确，不能精准定位渗漏点的位置；

2、现有的渗漏探测方法操作繁琐；

3、电渗法探测渗漏的方法需要用到很多设备，因购置设备产生的成本较高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种超深基坑围护结构平面渗漏检测方法，针对现有渗漏探测方法的缺陷，本发明利用电渗原理，在发生渗漏处的微弱离子运动进行高灵敏度的测量，来探测复杂地下结构的渗漏情况。在渗漏情况下，即便是轻微的渗漏，也会由于离子的运动，产生整个地层电场的变化，对于此变化，通过开发的多通道多传感器高精度量测系统，可以把握电场异常的位置，从而探得渗漏点。

为了解决上述技术问题，采用如下技术方案：

一种超深基坑围护结构平面渗漏检测方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)基坑围护结构的检测工作区划分并标注；

(2)基础设备搭设：在基坑外的观测井中装入正极多路器，在基坑内的降水井中装入负极多路器，正极多路器连接ECR电压控制器的正极，负极多路器连接ECR电压控制器的负极；并根据施工要求布置参考电极；

(3)传感器布设：首先根据施工要求组装传感器安装支架，根据施工要求将传感器安装支架安装在基坑围护处；该传感器安装支架由两组纵向移动支架与一组横向移动支架组成，该纵向移动支架与横向移动支架处于同一水平面，两组纵向移动支架之间连接该横向移动支架，纵向移动支架内安装纵向移动机构，通过纵向移动机构分别连接横向移动支架的两端；并且在横向移动支架内安装有横向移动机构，唯一的传感器通过安装座连接横向移动机构；该横向移动机构与纵向移动机构连接至电脑，并根据施工要求制定传感器的行径路线；