[发明专利]一种自动耦合装置及自动耦合方法有效

专利信息
申请号: 201910207293.3 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN110058355B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 楚劲草;谭书伟;尹华林;周园;刘欢;李礼 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02B6/30 分类号: G02B6/30;G02B6/36
代理公司: 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 代理人: 何婷
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 自动 耦合 装置 方法
【说明书】:

本发明公开了一种自动耦合装置及自动耦合方法,该自动耦合装置用于耦合待耦合器件与光纤,自动耦合装置包括:夹持机构和调节机构,夹持机构设置在调节机构上;夹持机构包括滑台和弹性件,弹性件的一端与滑台连接;夹持机构用于夹持光纤;调节机构用于调节夹持机构的姿态;在调节机构调节夹持机构的姿态的过程中,根据弹性件压缩状态的改变,监测光纤与待耦合器件之间的碰触状态,以使光纤的端面与待耦合器件的端面平行。本发明采用弹性件,可以避免在调节端面平行度的过程中滑台在重力的作用下倒滑,能够更准确地监测滑台的位移量变化,以有效调节夹持机构的姿态,使得光纤的端面与待耦合器件的端面平行,且一致性较好。

技术领域

本发明属于光器件制作技术领域,更具体地,涉及一种自动耦合装置及自动耦合方法。

背景技术

基于平面光波线路(Planar Lightwave Circuit,简写为PLC)技术制作的无源器件有:阵列波导光栅(Arrayed Waveguide Grating,简写为AWG)和阵列光衰减器等,前述器件具有尺寸小、成本低、易于集成以及适合大规模生产等优点,在光通信领域有广泛的应用。阵列波导类器件由于通道较窄,通道正常宽度为4.4μm*4.4μm,通道数较多(典型值为4CH、24CH、48CH或96CH等),通道间距较小(典型值127μm、254μm),导致其生产过程中耦合难度大,且耦合效率低。此外,阵列波导类器件与光纤纤带(Fiber Array,简写为FA)耦合,对于单模光纤制作的纤带,纤芯直径为9μm,纤芯间距典型值为254μm,纤带多通道与阵列波导类器件耦合,难度较大。

在实际制作中,阵列波导类器件与光纤纤带耦合需进行点胶固化,两耦合平面之间的固化胶参与光路中光传播,因此,两平面的平行度以及两平面之间距离均对耦合的器件光学参数指标(例如,影响器件插损、回损)有决定性影响。同时,为了减小器件耦合端面反射回来的光,增大回损,器件耦合端面一般研磨成一定的倾角,相应地FA耦合端面也需要研磨成相应的倾角。因此,使器件芯片耦合端面与FA耦合端面形成两平行平面,且两平面之间距离为一固定值具有较大难度。阵列波导类器件通过手动耦合效率较低,且器件一致性差。

公告号为CN104880769B的专利,公开了一种光分路器耦合对准面平行的调整方法,该调整方法主要分为两大步:(1)初步调整FA位置与PLC芯片大致持平,并呈基本接触状态(相互靠近,但不接触)。(2)在竖方向和横方向上分别转动±a角度,使FA与PLC相碰撞,以使FA产生位移,根据位移情况,调整相应的转动角度,以使FA和PLC芯片的两端面平行。

针对步骤(1):主要依赖于人眼观察,需要达到微米量级,在实际制作过程中,不仅实现难度极大,而且效率和准确率均很低,不适用于批量生产。针对步骤(2):如果角度a过小,则FA与PLC可能不能相碰;如果角度a过大,则FA与PLC可能会过度碰撞,位移量和旋转的角度不能相匹配,因此,角度a过小或者角度a过大,均可能导致无法进行有效的调整。此外,在竖方向上调整时,由于FA安装台以及FA的重力作用,会使得FA沿导轨滑动,即FA与PLC之间的碰撞力以及FA与PLC的重力作用,均会导致FA产生位移量,而且正转(+a角度)和反转(-a角度)过程中,由于重力作用所产生的滑动力的方向是不同的,使得重力作用不可相消,通过本专利的方法很难将两端面调整为平行状态,甚至会出现通过本专利方法调整两端面至平行状态后,而实际上二者并不平行的情况的发生。

鉴于此,克服该现有技术所存在的缺陷是本技术领域亟待解决的问题。

发明内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供了一种自动耦合装置及自动耦合方法,其目的在于采用弹性件,可以避免在调节端面平行度的过程中滑台在重力的作用下倒滑,能够更准确地监测滑台的位移量变化,以有效调节夹持机构的姿态,使得光纤的端面与待耦合器件的端面平行,且一致性较好,可适用于大批量生产。由此解决目前光纤与待耦合器件耦合难度大,器件一致性差的技术问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光迅科技股份有限公司,未经武汉光迅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910207293.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top