[发明专利]一种化学气相沉积设备及其控制方法和控制装置

说明书

本发明涉及一种化学气相沉积设备及其控制方法和控制装置，所述控制方法包括：调节所述化学气相沉积设备的内部压强至外界大气压强；检测是否发出放料信号；根据检测到的放料信号打开所述化学气相沉积设备的大气端隔离门；通过所述大气端隔离门进行放料操作。本发明的控制方法，在打开所述化学气相沉积设备的大气端隔离门前会检测是否发出放料信号，当检测到放料信号后，打开所述大气端隔离门，可以避免在无法进行放料操作时，由于长时间打开所述大气端隔离门，而使得所述玻璃基板发生电性缺陷超规异常的现象。

技术领域

本发明属于液晶显示面板制造技术领域，具体涉及一种化学气相沉积设备及其控制方法和控制装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)是微电子技术与液晶显示器技术巧妙结合而产生的一种液晶显示器。薄膜晶体管液晶显示器由于具有高的使用安全性和可靠性，而且尺寸多样化、使用温度范围较广等优点，越来越得到广泛的应运，而且薄膜晶体管液晶显示器制造技术的自动化程度高，大规模工业化生产特性好，薄膜晶体管液晶显示器制造业也受到了人们的关注。

在薄膜晶体管液晶显示器工业制造过程中，玻璃基板上的成膜工艺一般使用化学气相沉积(CVD)技术，化学气相沉积技术是借由气体混合物发生的化学反应，包括利用热能、等离子体或紫外光照射等方式，在基板表面上沉积一层固态化合物的过程。化学气相沉积设备是薄膜晶体管液晶显示器工业制造过程中必不可少的设备，化学气相沉积设备包括真空锁(Dual Single Slot Load Lock，简称DSSL)、转移腔(Transfer Chamber，简称TC)和工艺腔(Process Chamber，简称PC)，其中，真空锁用来为从大气环境中进入的玻璃基板降压，以及为已经在工艺腔完成镀膜的玻璃基板降温；转移腔用于在真空环境下完成真空机械手臂从真空锁到工艺腔的玻璃基板转移操作，以及将工艺腔中镀膜完成的玻璃基板取出放入真空锁中；工艺腔作为镀膜工艺腔室用来为玻璃基板进行镀膜。

目前，在薄膜晶体管液晶显示器制造过程中，会存在一些电性缺陷超规异常，而且发现化学气相沉积设备的大气端隔离门，也就是真空锁与外界大气连接的一侧隔离门打开的时间越长，电性缺陷超规异常也就越多。这是由于化学气相沉积设备的大气端隔离门打开时间过长，会导致环境中的空气进入真空锁内部，当真空锁为从大气环境中进入的玻璃基板进行降压操作时，进入的空气中的水发生凝结，并附着在玻璃基板的驱动电路和半导体开关上，进而造成电性缺陷超规异常的产生。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明提供了一种化学气相沉积设备及其控制方法和控制装置。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现：

本发明提供了一种化学气相沉积设备的控制方法，包括：

调节所述化学气相沉积设备的内部压强至外界大气压强；

检测是否发出放料信号；

根据检测到的放料信号打开所述化学气相沉积设备的大气端隔离门；

通过所述大气端隔离门进行放料操作。

在本发明的一个实施例中，调节所述化学气相沉积设备的内部压强至外界大气压强，包括：

向所述化学气相沉积设备的内部充入惰性气体，并打开安装在所述化学气相沉积设备上的排气单元，直至所述化学气相沉积设备的内部压强与外界大气压强相同。

在本发明的一个实施例中，所述放料信号是所述化学气相沉积设备的取放料装置获取待处理的玻璃基板时发出的信号。

在本发明的一个实施例中，根据检测到的放料信号打开所述化学气相沉积设备的大气端隔离门，包括：

当检测到放料信号时，打开所述化学气相沉积设备的大气端隔离门；

当未检测到放料信号时，保持所述大气端隔离门闭合。