[发明专利]带取向膜基板的制造方法

权利要求书

1.一种带取向膜基板的制造方法，其特征在于，具有：

涂膜形成工序，在基板的表面涂布含有在主链具有偶氮苯基的第一高分子、第二高分子和溶剂的取向膜组合物，形成涂膜；

预干燥工序，加热所述基板使所述溶剂的一部分挥发，使所述涂膜干燥；以及

加热曝光工序，加热所述预干燥工序后的所述基板并对所述涂膜照射光，

在所述预干燥工序中，所述取向膜被层分离为位于所述基板的相反侧的表面的包含所述第一高分子的光取向层和与所述基板相接的包含所述第二高分子的基底层，

在所述加热曝光工序中，在60～80℃下加热所述基板，并照射中心波长为350～450nm且不含小于300nm的波长的光。

2.根据权利要求1所述的带取向膜基板的制造方法，其特征在于，

在所述加热曝光工序中，提高所述光取向层中所含的所述偶氮苯基的反应性的同时使其异构化。

3.根据权利要求1或2所述的带取向膜基板的制造方法，其特征在于，

在所述预干燥工序中，在50～80℃下加热所述基板。