[发明专利]具有多个整流板的流体处理设备

权利要求书

1.一种流体处理设备，该流体处理设备包括：

外壳，所述外壳具有流体入口管和流体出口管；

彼此平行的带孔的多个整流板，所述多个整流板在所述流体入口管那一侧设置在所述外壳内，所述整流板垂直于所述外壳的纵向轴线；以及

光源，所述光源用紫外线照射从所述流体入口管穿过所述外壳通向所述流体出口管的流体，

其中，当所述多个整流板中的第一整流板比所述多个整流板中的第二整流板更接近所述流体入口管时，所述第二整流板中的孔的孔径率小于所述第一整流板中的孔的孔径率，

其中，所述外壳被分成由所述第二整流板分开的整流腔室和紫外线照射腔室，

其中，在所述紫外线照射腔室中设置有与所述第二整流板对置的紫外线透射窗口，从所述光源发射的紫外线穿过所述紫外线透射窗口到达所述紫外线照射腔室，从而用紫外线照射所述紫外线照射腔室中的流体，

其中，所述流体出口管设置在所述第二整流板和所述紫外线透射窗口之间，

其中，所述第一整流板包括在所述外壳处居中的流体流抑制部分，所述第一整流板的所述流体流抑制部分的直径不小于所述流体入口管的直径，

其中，所述第二整流板包括在周边处的流体流抑制部分，所述第二整流板的所述流体流抑制部分围绕所述第二整流板的所述孔，并且

其中，所述第一整流板联接到所述第二整流板。

2.根据权利要求1所述的流体处理设备，其中，所述第二整流板在所述外壳的内表面处进行内部接触。

3.根据权利要求1所述的流体处理设备，所述流体处理设备进一步包括将所述第一整流板联接到所述第二整流板的联接部分；

所述第二整流板在所述外壳的内表面处进行内部接触。

4.根据权利要求3所述的流体处理设备，其中，所述联接部分包括不带孔的柱形部分。

5.根据权利要求3所述的流体处理设备，其中，所述联接部分包括不带孔的锥形柱形部分。

6.根据权利要求1所述的流体处理设备，其中，所述多个整流板包括插入到所述第一整流板和所述第二整流板之间的第三整流板，所述第三整流板中的孔的孔径率介于所述第一整流板中的孔的孔径率和所述第二整流板中的孔的孔径率之间。

7.根据权利要求6所述的流体处理设备，所述流体处理设备进一步包括将所述第一整流板和第三整流板联接到所述第二整流板的联接部分；

所述第二整流板在所述外壳的内表面处进行内部接触。

8.根据权利要求6所述的流体处理设备，其中，所述第二整流板在所述外壳的内表面处进行内部接触。

9.根据权利要求7所述的流体处理设备，其中，所述联接部分包括不带孔的柱形部分。

10.根据权利要求7所述的流体处理设备，其中，所述联接部分包括不带孔的锥形柱形部分。

11.根据权利要求1所述的流体处理设备，其中，所述光源设置在所述外壳的下游侧和上游侧中的任一侧处。

12.根据权利要求1所述的流体处理设备，其中，距所述光源的距离越远，所述外壳的横截面越大。