[发明专利]一种标定靶的位置校验方法及装置

权利要求书

1.一种标定靶的位置校验方法，其特征在于，包括：

确定实际标定靶上的特征点在预设摄像头的成像平面的位置；

根据所述特征点在所述成像平面的位置，生成标定靶基准模型,其中,包括：获取基准图像模型；所述基准图像模型与所述成像平面的分辨率和纵横比成比例；将所述特征点在所述成像平面的位置标注在所述基准图像模型中，得到所述标定靶基准模型；

依据所述标定靶基准模型，对所述实际标定靶对应的目标虚拟标定靶的位置进行准确性校验。

2.根据权利要求1所述的位置校验方法，其特征在于，确定实际标定靶上的特征点在预设摄像头的成像平面的位置，包括：

获取实际标定靶上选取的特征点、所述实际标定靶与所述预设摄像头的相对位置以及所述预设摄像头的成像参数；

依据所述相对位置以及所述预设摄像头的成像参数，依据相机成像原理，确定所述特征点在所述成像平面的位置。

3.根据权利要求1所述的位置校验方法，其特征在于，所述基准图像模型与所述成像平面的分辨率和纵横比成比例具体为：所述基准图像模型与所述成像平面等分辨率和等纵横比。

4.根据权利要求1所述的位置校验方法，其特征在于，依据所述标定靶基准模型，对所述实际标定靶对应的目标虚拟标定靶的位置进行准确性校验，包括：

将所述标定靶基准模型的位置与所述目标虚拟标定靶的位置进行比对；

若一致，则所述目标虚拟标定靶的位置准确；

若不一致，则所述目标虚拟标定靶的位置不准确。

5.根据权利要求1所述的位置校验方法，其特征在于，依据所述标定靶基准模型，对所述实际标定靶对应的目标虚拟标定靶的位置进行准确性校验，包括：

将所述目标虚拟标定靶设置为所述标定靶基准模型的背景；

若所述标定靶基准模型与所述目标虚拟标定靶重合，则所述目标虚拟标定靶的位置准确；

若所述标定靶基准模型与所述目标虚拟标定靶不重合，则所述目标虚拟标定靶的位置不准确。

6.根据权利要求1至5任一项所述的位置校验方法，其特征在于，依据所述标定靶基准模型，对所述实际标定靶对应的目标虚拟标定靶的位置进行准确性校验之后，还包括：

若所述目标虚拟标定靶的位置不准确，依据所述标定靶基准模型与所述目标虚拟标定靶的位置差，修正所述目标虚拟标定靶的位置。

7.一种标定靶的位置校验装置，其特征在于，包括：

位置确定模块，用于确定实际标定靶上的特征点在预设摄像头的成像平面的位置；

模型生成模块，用于根据所述特征点在所述成像平面的位置，生成标定靶基准模型，其中，包括模型获取子模块，用于获取基准图像模型；所述基准图像模型与所述成像平面的分辨率和纵横比成比例；模型生成子模块，用于将所述特征点在所述成像平面的位置标注在所述基准图像模型中，得到所述标定靶基准模型；

校验模块，用于依据所述标定靶基准模型，对所述实际标定靶对应的目标虚拟标定靶的位置进行准确性校验。

8.根据权利要求7所述的位置校验装置，其特征在于，所述位置确定模块包括：

数据获取子模块，用于获取实际标定靶上选取的特征点、所述实际标定靶与所述预设摄像头的相对位置以及所述预设摄像头的成像参数；

位置确定子模块，用于依据所述相对位置以及所述预设摄像头的成像参数，依据相机成像原理，确定所述特征点在所述成像平面的位置。

9.根据权利要求7所述的位置校验装置，其特征在于，所述基准图像模型与所述成像平面的分辨率和纵横比成比例具体为：所述基准图像模型与所述成像平面等分辨率和等纵横比。

10.根据权利要求7所述的位置校验装置，其特征在于，所述校验模块包括：

比对子模块，用于将所述标定靶基准模型的位置与所述目标虚拟标定靶的位置进行比对；

准确性确定子模块，用于若一致，则所述目标虚拟标定靶的位置准确；若不一致，则所述目标虚拟标定靶的位置不准确。