[发明专利]基于数据循环移位的PCM内存行复用方法有效

专利信息
申请号: 201910055632.0 申请日: 2019-01-22
公开(公告)号: CN109933424B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 章铁飞;傅均 申请(专利权)人: 浙江工商大学
主分类号: G06F9/50 分类号: G06F9/50
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310018 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 数据 循环 移位 pcm 内存 行复用 方法
【说明书】:

一种基于数据循环移位的PCM内存行复用方法,包括:内存行的结构优化;记录卡死单元信息的卡死位置缓存;复用卡死单元的写内存行操作;复用卡死单元的读内存行操作。针对PCM存储器写寿命短导致内存行出现卡死单元的问题,摒弃以往弃之不用的做法,转而优化内存行结构,添加记录卡死单元信息的卡死位置缓存;结合卡死位置缓存中的条目信息,采用数据循环移位的方法,将移位后的数据写入存在卡死单元的内存行中,实现内存行的复用。本方法具备存储代价小、计算速度快的优点。

所属技术领域

发明涉及一种PCM内存行复用方法。

背景技术

当前计算机中的内存采用DRAM存储技术。随着DRAM存储密度的不断提升,存储单元越来越小,能容纳的电荷越来越少,以至于不能稳定地、足够久地保存数据,因此DRAM技术已经慢慢接近物理极限,需要新的存储技术来代替DRAM。非易失性相变存储器PCM(phasechange memory)是一种新的很有竞争力的存储技术。PCM采用不同的存储原理,即通过相变材料的状态变化而非电荷来存储表示数据,因为不存在DRAM的漏电流效应,可以持久地保存数据,而且PCM的存储密度可以做得更高。

每一个PCM存储单元包含一混合金属层,其可以在高电阻的晶体态和低电阻的非晶体态之间切换,即分别表示、存储逻辑值0和1。虽然PCM有高密度、无漏电流等优势,但相比于DRAM,PCM也有自身的劣势。首先,PCM存储器数据读取的速度比较慢,数据写入的速度则更慢于DRAM。另外,PCM存储器数据写寿命较短,即写入数据的次数,一般是108次。因为反复地写入数据,即PCM存储单元中的合金层频繁改变状态,最终混合金属层疲劳损坏,使得存储单元永久性陷入某种状态不能改变,因此不能再写入新的数据,这种现象称为PCM存储单元卡死(Stuck)。虽然不能写入新数据,存储单元仍然可以被读取,只不过读取的是其卡死状态所代表的数据值。

与DRAM内存架构类似,PCM单元以二维阵列的形式构成存储块(Bank),大小的常见配置是512×512,横向的512个存储单元构成内存行(Block),纵向的称为列。存储块是内存基本的结构和功能单元,每次读写存储块都是以内存行为单位。因为PCM存储单元写寿命较短,而且不同存储单元的写寿命有明显的差距,意味着一个内存行中写寿命较短的单元最早出现存储单元卡死。一旦内存行中的某个存储单元卡死,那么该内存行就不能正常地写入数据,即使剩余的511个存储单元都还未出现卡死。在发现某个内存行出现卡死存储单元时,如果就将该内存行弃之不用,意味着一个存储单元的卡死就将导致整个内存行都不能继续使用,造成极大浪费。

发明内容

本发明要克服现有技术的不足,提出基于数据循环移位的PCM内存行复用方法。本发明的优点是在PCM内存行出现卡死单元的情况下,不仅不禁用内存行,还能够复用内存行,继续读写数据,并且所提的方法存储代价小、计算速度快。

本发明的内容和特征就是:摒弃以往弃之不用的做法,转而优化内存行的结构,添加记录卡死单元信息的卡死位置缓存;结合卡死位置缓存中的条目信息,采用循环移位数据值的方法,将数据写入存在卡死单元的内存行中,实现内存行的复用;读取内存行中的数据时,根据标志位信息,再将读取的数据恢复为原始数据。

基于数据循环移位的PCM内存行复用方法,包括:

1)内存行的结构优化;

内存行的结构优化包括每个内存行添加卡死标志位、移位计数器和翻转标志位。卡死标志位用标识内存行当前是否存在卡死单元;移位计数器记录原始数据循环移位多少位后写入内存行;翻转标志位表示数据是否翻转后写入内存行。

2)记录卡死单元信息的卡死位置缓存;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工商大学,未经浙江工商大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910055632.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top