[发明专利]一种铁氧体烧结用保护膜的制作工艺在审
| 申请号： | 201910044553.X | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN109485400A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 张仕俊;蒋志琪;李迈 | 申请（专利权）人： | 绵阳北斗电子有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/26 | 分类号： | C04B35/26;C04B35/622 |
| 代理公司： | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人： | 贺理兴 |
| 地址： | 621000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铁氧体磁片 烧结 保护膜 铁氧体 制作工艺 表面形成 烧结过程 生产效率 粘连现象 摆片 磁片 生磁 合格率 节约 | ||
【权利要求书】：
1.一种铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：包括以下步骤：
S1.将铁氧体粉末制成生磁片；
S2.在激光打标机中设定相应的运行参数，其中的运行参数包括速率、跳距、焦距、打标次数、功率；
S3.将步骤S1中得到的生磁片穿过激光打标机的工作区域；
S4.启动激光打标机，激光打标机根据设定好的运行参数在生磁片的表面进行切割作业，在切割时，生磁片的部分铁氧体以及有机物发生汽化，并散落覆盖在生磁片表面形成保护膜。
2.根据权利要求1所述的铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：所述步骤S1中制作生磁片的方法为流延法或挤压法。
3.根据权利要求1所述的铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：所述步骤S1中铁氧体粉末的粒径小于2μm。
4.根据权利要求1所述的铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：所述步骤S2中的运行参数具体为：速率：100mm/s，跳距：5mm，焦距：400mm，打标次数：1，功率：12w。
5.根据权利要求1所述的铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：所述激光打标机两侧分别设置有用于放料的放料机构和用于收料的收料机构。
6.根据权利要求5所述的铁氧体烧结用保护膜的制作工艺，其特征是：所述放料机构为放料辊，所述收料机构为收料辊。
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