[发明专利]共聚焦拉曼光谱仪反应池

权利要求书

1.一种共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，包括：真空腔和置于其中的样品台，所述真空腔包括真空腔壳体和所述真空腔壳体内部开设的空腔，

所述样品台包括：低温盘和设于低温盘中的加热装置，所述低温盘内部开设制冷剂空腔，所述低温盘侧壁还开设连通所述制冷剂空腔的制冷剂接口，

所述真空腔壳体侧面开设用于调整空腔内环境的充气/抽气接口、用于为真空腔壳体降温的冷却水接口、用于为样品台充入制冷剂的制冷剂管接口和用于为加热装置导热的电流/热电偶馈通接口，所述真空腔壳体侧面还设有螺接于其上的样品台支撑，所述样品台通过制冷剂管路连接在所述样品台支撑上，所述真空腔壳体的顶面、底面均设有用于保证激光的入射和透射的石英窗片。

2.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，所述真空腔壳体顶部开设匹配上盖板的开口，所述上盖板螺接于所述真空腔壳体，所述上盖板开设匹配上盖的开口，所述上盖螺接于所述上盖板，顶面的石英窗片安装于所述上盖上。

3.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，所述真空腔壳体底部开设匹配下盖的开口，所述下盖螺接于所述真空腔壳体，底面的石英窗片安装于所述下盖上。

4.根据权利要求2或3所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，上盖、下盖与石英窗片之间均安装聚四氟垫圈，所述上盖板与真空腔壳体之间安装有环形垫圈，石英窗片与真空腔之间也安装有环形垫圈。

5.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，所述低温盘侧壁开设容纳加热陶瓷导线的孔，所述加热装置包括设于低温盘中心的加热陶瓷和连接所述加热陶瓷的接入、接出线，其与两个电流馈通连接，给加热陶瓷供电对样品台进行加热。

6.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，所述低温盘侧壁还开设用于测量低温盘温度的热电偶接入口，热电偶的一部分探入样品台中，所述热电偶与热电偶馈通相连。

7.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，制冷剂入口管穿过所述样品台支撑与制冷剂接入口相连，制冷剂出口管穿过所述样品台支撑与制冷剂出口相连，制冷剂出、入口管均通过焊接与样品台紧固，制冷剂出、入口管的端部螺接于所述样品台支撑。

8.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，冷却水管螺接于所述冷却水接口，所述冷却水接口设于所述真空腔壳体的各个角部，多个冷却水管均是一头连接其中一个角部，另一头连接该角部相邻的角部。

9.根据权利要求1所述的共聚焦拉曼光谱仪反应池，其特征在于，充气接口和抽气接口对称设置在真空腔壳体两侧。