[发明专利]一种掩膜版有效
| 申请号： | 201910037540.X | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN109491219B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 郑立彬 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/68 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 | ||
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：用于在显示面板上形成过孔的透光区域；
所述透光区域的四周设有镂空区域，且所述镂空区域的宽度以及所述镂空区域与所述透光区域的间距均低于曝光机的解析精度，所述透光区域的大小达到所述曝光机的解析极限。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区域为方形。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述镂空区域包括四个第一子区域；
所述四个第一子区域与所述透光区域的四个边界一一对应设置。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一子区域为矩形；
每个第一子区域与其对应的透光区域边界平行设置，且四个第一子区域与所述透光区域的间距相等。
5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，每个第一子区域的宽度均低于曝光机的解析精度，且每个第一子区域与所述透光区域的间距均低于曝光机的解析精度。
6.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述镂空区域还包括四个第二子区域；
所述四个第二子区域与所述透光区域的四个顶角一一对应设置。
7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，任意相邻的两个第一子区域之间具有一个第二子区域，且任意相邻的两个第一子区域与其之间的第二子区域相连通。
8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述第二子区域为方形；
每个第二子区域的一顶角与其对应的透光区域顶角连接。
9.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，每个第二子区域的宽度均低于曝光机的解析精度。
10.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述曝光机的解析精度为2um，每个第一子区域的宽度为0.5～1um，每个第一子区域与所述透光区域的间距为0.2～1.5um，每个第二子区域的宽度为0.5～1um。
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