[发明专利]一种偏振态可控的结构光投射模组及3D成像装置在审
| 申请号: | 201910037243.5 | 申请日: | 2019-01-15 |
| 公开(公告)号: | CN109541817A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
| 发明(设计)人: | 陈驰;蒋建华;何海祥 | 申请(专利权)人: | 深圳市安思疆科技有限公司 |
| 主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42;G03B15/02;H01S5/187;H01S5/022 |
| 代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
| 地址: | 518052 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投射 结构光 可控的 偏振态 模组 高对比度 出射光 光栅层 光源 激光 光能量利用率 衍射光学元件 偏振态匹配 发光面具 发光点 均匀性 出射 成像 复制 扩散 | ||
1.一种偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,包括:
激光vcsel阵列光源,所述激光vcsel阵列光源的发光面上方具有高对比度光栅层,每个发光点的出射光经过高对比度光栅层后,具有一致且可控的偏振态;
衍射光学元件,与所述出射光的偏振态匹配,所述衍射光学元件用于复制所述出射光并扩散出射。
2.如权利要求1所述的偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,所述的激光vcsel阵列光源包括依次设置的N电极层、基板层、N型DBR层、有源层、P型DBR层、P电极层和高对比度光栅层,所述P电极层刻蚀出光孔形成所述发光点;
所述高对比度光栅层位于所述P型DBR层的表面。
3.如权利要求1所述的偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,还包括准直透镜,接收由所述激光vcsel阵列光源出射的光束,并准直为平行光出射进入所述的衍射光学元件。
4.如权利要求3所述的偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,所述的准直透镜为单片透镜或包含多片透镜的透镜组。
5.如权利要求1所述的偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,所述的高对比度光栅层包含与所述发光点数量相对应的多个亚波长光栅,所述发光点的出射光经过亚波长光栅后,光的偏振方向将变得与亚波长光栅的栅格方向一致。
6.如权利要求1所述的偏振态可控的结构光投射模组,其特征在于,所述的匹配是指以激光vcsel阵列光源出射光的偏振态作为设计所述衍射光学元件的参数。
7.一种3D成像装置,其特征在于,包括:
权利要求1~6中任意一项所述的偏振态可控的结构光投射模组,用于向目标投射结构光图案;
图像接收模块,用于获取所述的结构光图案;
处理运算模块,根据所述结构光图案计算出深度信息。
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