[发明专利]成像质谱分析数据处理装置在审
| 申请号: | 201880093342.9 | 申请日: | 2018-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN112105926A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
| 发明(设计)人: | 押川伦宪 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像 谱分析 数据处理 装置 | ||
在通过成像质谱分析部(1)针对试样上的二维区域内的许多测定点的每个测定点收集质谱分析数据之后,用户从输入部(3)输入想要观察二维分布的目标化合物。图像显示指示接收部(22)按照每个目标化合物根据精密的m/z值和m/z的容许幅度来求出用于数据积分的m/z范围。质荷比范围重叠判定部(23)判定多个化合物的m/z范围有无重叠,在存在重叠的情况下,重叠判定结果处理部(24)制作例如m/z范围重叠的化合物的列表并将其显示在显示部(4)的画面上。由此,促使用户重新查看化合物或容许值。另外,也可以在m/z范围重叠的状态下制作每个化合物的MS成像图像来将其列表化并显示,在此时对m/z范围重叠的化合物的MS成像图像赋予能够与其他的图像相区别那样的标记。
技术领域
本发明涉及一种对由成像质谱分析装置收集到的试样上的二维区域内的许多微小区域的每个微小区域的质谱分析数据进行处理、制作并显示例如表示特定物质的二维强度分布的图像的成像质谱分析数据处理装置。
背景技术
成像质谱分析装置是能够一边通过光学显微镜观察生物体组织切片等试样的表面的形态一边对相同的试样表面上的具有特定质荷比m/z的离子的二维的强度分布进行测定的装置(参照专利文献1、非专利文献1等)。通过使用成像质谱分析装置观察与在例如癌症等特定疾病中特征性地出现的源自化合物的离子有关的质谱分析成像图像,能够掌握该疾病的扩散情况等。因此,近年来,盛行以下研究:利用成像质谱分析装置来对以生物体组织切片等为对象的药物动态解析或各器官中的化合物分布的不同、或者癌症等的病理部位与正常部位之间的化合物分布的差异等进行解析。
在成像质谱分析装置中,针对试样上的二维区域内设定的许多微小区域(测定点)的每个微小区域分别实施遍及规定质荷比范围的质谱分析,但是,在一个微小区域获得的数据是表示在质荷比方向上连续的波形的轮廓谱数据。在成像质谱分析装置内的数据处理部、具体来说数据处理用的计算机中,通过测定收集到的每个微小区域的轮廓谱数据被储存到存储装置中,通过使用该数据进行各种数据处理来计算与试样有关的信息。
在以往的一般的成像质谱分析数据处理装置(以下仅称为“数据处理装置”)中,用户在想要观察试样中的特定化合物的二维分布图像的情况下,指定该化合物的质荷比值M和质荷比的容许幅度(以下,仅称为“容许幅度”)ΔM,之后指示执行图像制作处理。数据处理装置接受该指示后,根据储存在存储装置中的各微小区域的轮廓谱数据,针对每个微小区域对基于所指定的质荷比值M和容许幅度ΔM的M±ΔM的质荷比范围的信号强度值进行积分,由此,计算与各微小区域对应的信号强度值,形成并显示表示该信号强度值的二维分布的图像。
各种化合物的精密的质量值(或理论上的质量值)也被收录到已知且通用的数据库等中。因而,用户在指定化合物时能够通过使用这种信息来实质指定与该化合物对应的质荷比值M。另外,虽然化合物根据情况而未知,但是也存在想要观察已知包含在试样内的某个质荷比下的二维强度分布那样的情况。在这种情况下,通过直接指定质荷比值和容许幅度,也能够使该质荷比下的二维强度分布图像显示。
一般多数情况下,用户想要将试样所包含的许多的各种化合物的二维分布合并来进行确认。因此,在上述数据处理装置中,能够在图像制作处理时指定多个化合物的质荷比值M和容许幅度ΔM。然而,质荷比值并不一定是化合物所特有的。例如,组成式相同的、不同的化合物彼此在原理上分不清。另外,组成式不同而分子量极其接近的多个化合物也多。当由用户指定多个这样的化合物来作为想要观察二维分布图像的化合物时,与该多个化合物有关的作为M±ΔM的质荷比范围的整体或一部分重叠。因此,造成针对各化合物显示二维强度分布大体上相同的图像。
在该情况下,当用户未确切地掌握所指定的化合物的质荷比值时,存在尽管实际上多个化合物中的一方基本不存在于试样中但是用户误判断为该多个化合物的空间分布非常接近的担忧。另外相反地,也存在尽管所指定的多个化合物以接近的空间分布都存在于试样中但是用户误判断为是某一方化合物的空间分布而不存在其他化合物的担忧。
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