[发明专利]双轴取向热塑性树脂膜

说明书

提供一种双轴取向热塑性树脂膜，通过使双轴取向热塑性树脂膜的至少一侧的表面中，最大突起高度小于20nm，并且在将高度为1nm以上且小于2nm的突起的个数设为A(个/mm²)、将高度为3nm以上且小于20nm的突起的个数设为B(个/mm²)的情况下，B/A为0.001以上且5以下，从而使其具有良好的透明性、平滑性和易滑性，进一步使制膜/加工工序中的损伤耐性提高。

技术领域

本发明涉及表面具有微细突起的双轴取向热塑性树脂膜。

背景技术

热塑性树脂由于其加工性良好，因此在各种工业领域中被利用。此外，将这些热塑性树脂加工成膜状的制品在工业用途、光学制品用途、包装用途、磁记录带用途等现代生活中发挥重要作用。近年来，在电子信息设备中，小型化、高集成化发展，伴随于此，对制作电子信息设备所使用的膜要求加工性的提高。特别是，在电子信息设备的制作中多采用使其它材料叠层于膜表面，连同膜一起实施光致抗蚀剂等光学加工的方法。因此，为了提高膜的加工性，一般的手段是保持膜的透明性，同时提高膜的平滑性。

为了应对上述要求，需要向膜表面赋予透明性、易滑性和平滑性、以及加工性。因此，例如在专利文献1中公开了：不使膜含有粒子，通过添加剂使表面粗糙，从而使易滑性提高的技术；在专利文献2中公开了：通过在膜表面构建内包有机树脂粒子的表现易滑性的涂层，从而使易滑性提高的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-221853号公报

专利文献2：日本特开2005-153322号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在如专利文献1所记载地那样使用添加剂的情况下，虽然易滑性令人满意，但由于由添加浓度不均引起的表面粗糙、产生来源于添加剂的异物，从而平滑性降低，或发生表面散射而透明性降低成为课题。此外，在如专利文献2所记载地那样设置易滑性的涂层的情况下，在加工工序中，涂层被剥落而成为工序污染的原因，这成为课题。本发明鉴于上述情况，其目的是提供具有良好的平滑性和易滑性，进一步使制膜/加工工序中的损伤耐性也提高了的双轴取向热塑性树脂膜。

用于解决课题的方法

为了解决上述课题，本发明采用以下构成。即，

[I]一种双轴取向热塑性树脂膜，至少一侧的表面中，最大突起高度小于20nm，并且在将高度为1nm以上且小于2nm的突起的个数设为A(个/mm²)、将高度为3nm以上且小于20nm的突起的个数设为B(个/mm²)的情况下，B/A为0.001以上且5.000以下。

[II]根据[I]所述的双轴取向热塑性树脂膜，所述表面中，在将高度为2nm以上且小于3nm的突起的个数设为C(个/mm²)的情况下，C/A为0.100以上且2.000以下。

[III]根据[I]或[II]所述的双轴取向热塑性树脂膜，上述表面的算术平均粗糙度Ra为3.0nm以下。

[IV]根据[I]～[III]中任一项所述的双轴取向热塑性树脂膜，具有上述表面的层实质上不含有粒子。

[V]根据[I]～[IV]中任一项所述的双轴取向热塑性树脂膜，在上述表面的突起中高度为1nm处的突起截面的等效圆直径的平均值为15nm以上且30nm以下。

[VI]根据[I]～[V]中任一项所述的双轴取向热塑性树脂膜，上述高度为1nm以上且小于2nm的突起的个数A为1.0×10⁷个/mm²以上且1.0×10⁹个/mm²以下。