[发明专利]多孔石墨表膜

权利要求书

1.一种制造用于光刻设备的表膜的方法，所述方法包括：在三维模板中生长所述表膜，

其中，所述模板是沸石，以及，

所述表膜具有大于90％的EUV透射率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述沸石选自沸石A、沸石β、丝光沸石、沸石Y、ZSM-5和菱沸石。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述沸石是被改性的沸石，其中所述被改性的沸石包括掺杂有镧、锌、钼、钇、钙、钨、钒、钛、铌、铬、钽和铪中的一种或更多种的沸石。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法包括：提供碳源，并使所述碳源传递进入到所述三维模板的材料中，其中气态碳源包括至少一个饱和或不饱和的C1至C4烃。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述气态碳源包括甲烷、乙烷、乙烯、乙炔、丙烷、丙烯、丙二烯、丙炔、丁烷、丁烯、丁二烯、丁三烯和丁炔中的至少一个。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其中，所述方法包括将所述三维模板加热至第一温度以使得所述碳源碳化，其中所述第一温度为从约350℃至约800℃。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述三维模板被加热至高于所述第一温度的第二温度。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述三维模板被溶解以释放含碳表膜。

9.根据权利要求8所述的方法，其中通过将所述三维模板暴露于强酸来溶解所述三维模板。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中通过使用硅晶片生产所述三维模板，其中所述硅晶片的至少一部分被转变成沸石，或其中将沸石膜沉积于所述硅晶片的表面上。

11.一种三维模板在制造表膜中的用途，其中所述三维模板被配置成制造具有大于90％的EUV透射率的所述表膜，其中所述三维模板是被改性的沸石，所述被改性的沸石已经掺杂有镧、锌、钼、钇、钙、钨、钒、钛、铌、铬、钽和铪中的一种或更多种。

12.一种用于制造表膜的三维模板，其中所述三维模板被配置成制造具有大于90％的EUV透射率的所述表膜，其中所述模板包括沸石，其中所述沸石掺杂有镧、锌、钼、钇、钙、钨、钒、钛、铌、铬、钽和铪中的一种或更多种。

13.一种表膜，具有三维结构，所述三维结构基本上对应于沸石的内部孔结构，

其中，所述表膜是含碳的，以及

所述表膜具有大于90％的EUV透射率。