[发明专利]电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置

权利要求书

1.一种电极框架，所述电极框架在内部配备有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用，包括：

负极框架，其与所述电解研磨对象物隔开配置，包括第一方向的第一负极板、第二方向的第二负极板和第三方向的第三负极板，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向均互不相同；及

电极结合构件，其配置于所述电解研磨对象物的角部，使所述第一负极板至所述第三负极板连接；

所述电极结合构件包括与所述第一负极板结合的第一支架、与所述第二负极板结合的第二支架及与所述第三负极板结合的第三支架；

在所述负极框架的一侧包括使所述负极框架从所述电解研磨对象物的侧面或底面隔开的隔开构件。

2.根据权利要求1所述的电极框架，其中，

所述第一支架至所述第三支架分别包括第一面和与所述第一面构成既定角度的第二面，所述第一负极板与所述第一支架的第一面或第二面中至少某一个以上重叠配置，借助于第一夹具而固定；

所述第一支架的第一面在所述第三支架的第二面的后方结合，所述第一支架的第二面在所述第二支架的第二面的后方结合，所述第二支架的第一面在所述第三支架的第一面的前方结合。

3.根据权利要求1所述的电极框架，其中，

所述第一支架与所述第二支架之间的角度与所述电解研磨对象物的角部所构成的角度对应，

所述第一支架与所述第二支架之间的角度根据所述第三支架的第一面与所述第三支架的第二面之间的角度而决定。

4.根据权利要求1所述的电极框架，其中，

所述第三支架包括相互隔开配置的多个支架，在所述第三支架的一侧结合有所述第一支架，在所述第三支架的另一侧结合有第二支架，

在所述第三支架的一侧与第三支架的另一侧之间还连接有连接构件。

5.根据权利要求1所述的电极框架，其中，

所述第一负极板包括第一负极支架和第二负极支架，所述第一负极支架在一部分重叠于所述第二负极支架的状态下，向从所述第二负极支架远离或靠近的方向移动，

所述第一负极支架与所述第二负极支架的重叠区域借助于第四夹具而支撑。

6.一种可变型电极框架，包括：

第一负极板，其沿第一方向配置，由多个支架构成；

第二负极板，其沿与所述第一方向构成既定角度的第二方向配置，由多个支架构成；

所述第一负极板包括第一支架和第二支架，所述第一支架在一部分重叠于所述第二支架的状态下，向从所述第二支架远离或靠近的方向移动，

所述第一支架与所述第二支架的重叠区域为变长或变短的可变型，

既定的研磨对象物包括互不相同的宽度的第一区域和第二区域，

所述可变型的第一负极板可变，以便能够穿过所述研磨对象物的第二区域，穿过所述第二区域的所述第一负极板与所述研磨对象物的第一区域的面积对应地可变。

7.根据权利要求6所述的可变型电极框架，其中，

所述第一支架与所述第二支架的重叠区域借助于夹具而支撑，

所述夹具还包括相向配置的绝缘部，

在所述绝缘部的一面还形成有凸起。

8.根据权利要求6所述的可变型电极框架，其中，

所述第一支架的第一区域沿着所述第二支架的第二区域滑动，在所述第一支架的一侧，配置有从所述第一支架凸出或容纳的凸出部，在所述第二支架的一侧，配置有与所述凸出部对应的多个容纳槽。

9.根据权利要求6所述的可变型电极框架，其中，

既定的电解研磨对象物包括具有互不相同的面积的容纳空间，

所述可变型电极框架以配置于所述电解研磨对象物的互不相同面积的容纳空间的方式具备多个，

所述多个可变型电极框架利用导电性连接板相互连接，

在所述可变型电极框架的一侧，还包括辅助负极板。

10.一种包括权利要求1至9中任意一项的电极框架的电解研磨装置。