[发明专利]双端口远程等离子清洁隔离阀

权利要求书

1.一种隔离装置，包括：

主体，所述主体具有在第一端部处的入口开口和在第二端部处的一个或多个出口开口；

隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；

第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及

第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内，其中所述第一翻板和所述第二翻板被枢转地致动以选择性地允许进入和阻挡进入所述入口开口或所述一个或多个出口开口中的至少一个。

2.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括：第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一翻板中；以及至少一个第二密封件，所述至少一个第二密封件设置在所述第二翻板内，其中所述第一密封件包围所述至少一个第二密封件，并且当所述第二翻板被定位成阻挡进入所述出口开口时，所述至少一个第二密封件包围所述一个或多个出口开口中的至少一个。

3.如权利要求1所述的隔离装置，其中当所述第一翻板和所述第二翻板被定位成允许进入所述入口开口和所述出口开口时，所述第一翻板和所述第二翻板被定位成面对面。

4.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括形成在其中的冷却通道，并且其中所述第一翻板和第二翻板耦接到旋转轴。

5.如权利要求1所述的隔离装置，进一步包括泄压系统，所述泄压系统耦接到所述隔离容积。

6.如权利要求1所述的隔离装置，其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括含金属的材料。

7.一种用于处理衬底的系统，包括：

远程等离子体源；

一个或多个工艺腔室，所述一个或多个工艺腔室流体地耦接到所述远程等离子体源；以及

隔离装置，所述隔离装置设置在所述远程等离子体源与所述一个或多个工艺腔室之间，所述隔离装置包括：

主体，所述主体具有入口开口和至少一个出口开口；

隔离容积，所述隔离容积限定在所述主体中；

第一翻板，所述第一翻板设置在所述隔离容积内；以及

第二翻板，所述第二翻板设置在所述隔离容积内。

8.如权利要求7所述的系统，其中所述隔离装置进一步包括：第一密封件，所述第一密封件设置在所述第一翻板中；以及至少一个第二密封件，所述至少一个第二密封件设置在所述第二翻板内，其中所述第一密封件包围所述至少一个第二密封件，并且当所述第二翻板被定位成阻止进入所述至少一个出口开口时，所述至少一个第二密封件包围所述至少一个出口开口。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述至少一个第二密封件包括两个密封件，每个密封件被配置为包围所述至少一个出口开口中的一个。

10.如权利要求7所述的系统，其中当所述第一翻板和所述第二翻板被定位成允许进入所述入口开口和所述至少一个出口开口时，所述第一翻板和所述第二翻板被定位成面对面。

11.如权利要求7所述的系统，其中所述一个或多个工艺腔室是多工艺腔室，并且所述至少一个出口开口中的每个对应于所述多工艺腔室中的相应工艺腔室。

12.如权利要求7所述的系统，其中所述第一翻板和所述第二翻板耦接到旋转轴，并且其中所述主体、所述第一翻板和所述第二翻板包括含金属的材料。

13.如权利要求7所述的系统，其中在所述隔离装置中进一步包括泄压系统，所述泄压系统耦接到所述隔离容积。

14.如权利要求7所述的系统，其中所述至少一个出口开口包括两个出口开口，并且所述一个或多个工艺腔室包括两个工艺腔室，并且其中所述入口开口与所述远程等离子体源流体连通并且所述两个出口开口各自与所述两个工艺腔室中的一个流体连通。

15.一种用于处理衬底的方法，包括：

用隔离装置来阻挡远程等离子体源与工艺腔室之间的流体连通，所述阻挡包括：

将所述隔离装置的第一翻板移动到第一位置，以阻挡进入设置在所述隔离装置的第一端部中的第一端口；以及

将所述隔离装置的第二翻板移动到第二位置，以阻挡进入设置在所述隔离装置的第二端部中的至少两个第二端口。