[发明专利]金属氟氧化物的处理方法及清洁方法

权利要求书

1.一种金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，使通式MO_(6-x)/2F_x所示的金属氟氧化物于0℃以上且不足400℃的温度下与含氟气体接触，通过化学反应转换为通式MF₆所示的六氟化金属，其中，MO_(6-x)/2F_x：0＜x＜6、M＝W或Mo；MF₆：M＝W或Mo。

2.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为选自由F₂气体、NF₃气体、ClF₃气体、及IF₇气体所组成的组中的至少一种气体。

3.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述反应温度为10℃以上且200℃以下。

4.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为F₂气体。

5.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为NF₃气体。

6.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为ClF₃气体。

7.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为IF₇气体。

8.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为F₂气体，所述反应温度为10℃以上且200℃以下。

9.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为NF₃气体，所述反应温度为10℃以上且200℃以下。

10.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为ClF₃气体，所述反应温度为10℃以上且200℃以下。

11.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述含氟气体为IF₇气体，所述反应温度为10℃以上且200℃以下。

12.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，

使所述金属氟氧化物与所述含氟气体接触时的压力以绝对压力计为0.01kPa以上且300kPa以下。

13.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，所述通式MO_(6-x)/2F_x中，x为4。

14.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，使所述金属氟氧化物与通过非活性气体稀释的所述含氟气体接触。

15.根据权利要求1所述的金属氟氧化物的处理方法，其特征在于，使所述金属氟氧化物与所述含氟气体接触时，不产生等离子体。

16.一种氟化金属制造装置的清洁方法，其特征在于，将制造通式MF₆所示的六氟化金属的氟化金属制造装置的内表面上沉积的通式MO_(6-x)/2F_x所示的金属氟氧化物通过权利要求1～15中任一项所述的处理方法转换为六氟化金属而去除，其中，MO_(6-x)/2F_x：0＜x＜6、M＝W或Mo；MF₆：M＝W或Mo。

17.一种成膜装置的清洁方法，其特征在于，将使用通式MF₆所示的六氟化金属的成膜装置的内表面上沉积的通式MO_(6-x)/2F_x所示的金属氟氧化物通过权利要求1～15中任一项所述的处理方法转换为六氟化金属而去除，其中，MO_(6-x)/2F_x：0＜x＜6、M＝W或Mo；MF₆：M＝W或Mo。