[发明专利]掩模版夹持设备

权利要求书

1.一种掩模版夹持系统，包括：

支撑设备；

保持设备，被配置为将掩模版可释放地耦合到所述支撑设备，其中所述保持设备包括多个突节；以及

金属支撑系统，被耦合到所述支撑设备，并且被配置为提供从真空通道到所述保持设备的真空路径，

其中所述金属支撑系统包括保持器和柱状物，所述柱状物被插入通过所述保持器，并且被耦合到所述保持器。

2.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述支撑设备包括：

第一支撑设备部分，被耦合到所述保持设备；以及

第二支撑设备部分，被耦合到所述第一支撑设备部分。

3.根据权利要求2所述的掩模版夹持系统，还包括：

支撑传输设备，被耦合到所述第二支撑设备部分，其中所述第二支撑设备部分包括所述真空通道，并且

其中所述保持器被耦合到所述支撑传输设备，并且所述柱状物被耦合到所述第二支撑设备部分。

4.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，还包括：

第二保持设备，被配置为将所述掩模版可释放地耦合到第二支撑设备，其中所述第二保持设备包括第二多个突节。

5.根据权利要求4所述的掩模版夹持系统，还包括：

第二金属支撑系统，被耦合到所述第二支撑设备，并且被配置为提供到所述第二保持设备的真空路径。

6.根据权利要求5所述的掩模版夹持系统，还包括：

第三金属支撑系统，被耦合到所述第二支撑设备，其中所述第三金属支撑系统与所述第二金属支撑系统间隔开，并且所述第二金属支撑系统和所述第三金属支撑系统中的每个金属支撑系统被配置为提供到所述第二保持设备的所述真空路径。

7.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述金属支撑系统还包括环，所述环被耦合到所述保持器。

8.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述多个突节在两个方向上分布。

9.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述保持设备还包括位于所述保持设备的边缘处的密封件。

10.根据权利要求9所述的掩模版夹持系统，其中所述密封件的高度小于所述多个突节的高度，使得当所述掩模版接触所述多个突节的上表面时，所述掩模版不接触所述密封件的上表面。

11.根据权利要求1所述的掩模版夹持系统，其中所述金属支撑系统包括非金属材料。

12.一种光刻装置，包括：

照射系统，被配置为照射图案形成设备的图案；

投影系统，被配置为将所述图案的图像投影到衬底的目标部分上；以及

图案形成设备夹持系统，包括：

支撑设备；

保持设备，被配置为将图案形成设备可释放地耦合到所述支撑设备，其中所述保持设备包括在两个方向上分布的多个突节；以及

金属支撑系统，被耦合到所述支撑设备，并且被配置为提供从真空通道到所述保持设备的真空路径；

其中所述金属支撑系统包括保持器和柱状物，所述柱状物被插入通过所述保持器，并且被耦合到所述保持器。

13.根据权利要求12所述的光刻装置，其中所述图案形成设备夹持系统还包括：

第二保持设备，被配置为将所述图案形成设备可释放地耦合到第二支撑设备，其中所述第二保持设备包括第二多个突节。

14.根据权利要求13所述的光刻装置，其中所述图案形成设备夹持系统还包括：

第二金属支撑系统，被耦合到所述第二支撑设备，并且被配置为提供到所述第二保持设备的真空路径。