[发明专利]清洁方法和系统

说明书

一种清洁系统和方法，用于在低温烧结陶瓷生产过程中，清理至少一基底(1)的至少一个孔(4)的溢出糊状物，所述清洁系统包括至少一胶带(2)，其可方便地置于基底(1)上，并且黏附在从孔(4)溢出的糊状物上，以及至少一压件(3)，其把所述胶带(2)压向基底(1)，使胶带(2)黏附着溢出孔(4)外的糊状物。所述清洁方法包括把至少一胶带(2)盖着基底(1)，使用至少一压件(3)把胶带(2)压向基底(1)，使胶带(2)黏附着溢出孔(4)外的糊状物，然后把黏附着溢出孔(4)外的糊状物的胶带(2)与基底(1)分离。

技术领域

本发明涉及清洁方法和系统，用于清洁低温烧结陶瓷生产中，溢出基底的糊状物。

背景技术

低温共烧陶瓷技术(LTCC)尤其用于多层微波模块生产上。低温烧结陶瓷的生产方法包括以下步骤：获得基底材料、在基底材料上开孔、使用传导糊状物把孔填平、把不同的基底材料层叠形成多层结构、再将多层结构烧结在一起。在所述“使用传导糊状物把孔填平”的步骤中，糊状物不能溢出孔外。若糊状物溢出孔外，溢出的糊状物会夹在不同的基底材料层叠形成的多层结构中，造成变形和/或隆起。虽然糊状物已经很精确地填入孔中，但也不能排除过程中出现溢出的问题。因此，溢出的糊状物需要被清理掉。

US2010059255A1公开了低温烧结在一起的多层陶瓷子层，以及生产这些陶瓷子层的方法，其使用了扩散阻挡层来防止糊状物溢出孔外。虽然这种方法防止了其中一层子层的糊状物溢出，但没法阻止其它层的糊状物溢出。

发明内容

本发明涉及一种清洁系统和方法，用于在低温烧结陶瓷生产过程中，清理至少一基底的至少一个孔的溢出糊状物。所述清洁系统包括至少一胶带，其可方便地置于基底上，并且黏附在从孔溢出的糊状物上，也包括至少一压件，其把所述胶带压向基底。

本发明提供的清洁方法包括把至少一胶带盖着基底，使用至少一压件把胶带压向基底，使胶带黏附着溢出孔外的糊状物，然后把黏附着溢出孔外的糊状物的胶带与基底分离。

在本发明提供的清洁系统和方法中，所述在基底上溢出孔外的糊状物黏附于胶带，从而被带离基底。此外，通过使用压件把胶带压向基底，胶带可以更佳地黏附溢出孔外的糊状物。所以，本发明轻易和可靠地清理在基底溢出孔外的糊状物。

本发明目的

本发明提供一种清洁方法和系统，用于清洁低温烧结陶瓷生产中，溢出基底的糊状物。

本发明另一个目的是提供一种实用可靠的清洁方法和系统。

附图说明

附图示出了本发明的清洁方法和清洁系统的一些实施例，其中：

图1是本发明的清洁系统的一种使用例子的立体图。

图2是本发明的清洁系统的另一种使用例子的立体图。

图3是能量产生系统的另一实施例子的侧视图。

图中的部件已逐个标号，图中的标号包括：

1:基底

2:胶带

3:压件

3a:本体

3b:滚筒

3c:把手

4:孔

具体实施方式

在基底材料上形成孔，然后在低温烧结陶瓷生产过程中，把传导糊状物填入所述孔中，之后，把不同的基底材料层叠，形成多层结构，再把形成的多层结构烧结在一起。过程中从孔溢出的糊状物会构成变形。因此，本发明提供一种清洁方法和系统，用于清洁低温烧结陶瓷生产中，溢出基底的糊状物。