[发明专利]用于减小表面纹理在光学扫描中的影响的方法以及其装置

权利要求书

1.一种用于减小表面纹理在由扫描管理设备实施的对测试物体的表面的光学扫描中的影响的方法，所述方法包括：

向光学扫描器装置提供指令，所述光学扫描器装置被配置成能够在所述测试物体的所述表面上产生定位元素，以按二维扫描图案将所述定位元素扫描到所述测试物体的所述表面上的多个点；

沿着所述测试物体的所述表面获得所述多个点中的每一者处的所述定位元素的图像的图像数据；以及

处理所述获得的图像数据以确定所述测试物体的表面轮廓，其中所述二维扫描图案减少所述表面轮廓中的表面纹路错误。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述二维扫描图案包括锯齿状图案、正方形图案、三角形图案、正弦曲线形图案、伪随机图案、随机图案，或者它们的组合。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述多个点包括所述测试物体的所述表面上的至少3个点。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述二维扫描图案包括沿着主扫描轴线的线性扫描的多个循环，其中所述线性扫描的所述多个循环的所述点中的每一者沿着辅扫描轴线分开一定距离。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述线性扫描的所述多个循环包括所述线性扫描的2个至500个循环。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述线性扫描的所述多个循环中的每一者包括2个至500个扫描点。

7.如权利要求4所述的方法，其中所述二维图案是锯齿状图案或三角形图案，并且沿着所述辅扫描轴线的在所述线性扫描的所述多个循环中的每一者之间的所述距离是在约1.0微米到约1.0毫米之间。

8.如权利要求4所述的方法，其中所述二维图案是正方形图案，并且沿着所述辅扫描轴线的在所述线性扫描的所述多个循环中的每一者之间的所述距离是在约5.0微米到约5.0毫米之间。

9.如权利要求4所述的方法，其中所述二维图案是正弦曲线形图案，并且沿着第二扫描轴线的峰到谷距离是在约5.0微米到约5.0毫米之间。

10.如权利要求4所述的方法，其中所述二维图案是伪随机图案或随机图案，并且沿着所述第二扫描轴线的在所述线性循环之间的最大到最小距离是在约5.0微米到约5.0毫米之间。

11.如权利要求1所述的方法，其中一个或多个二维扫描图案彼此叠加。

12.一种扫描管理设备，所述扫描管理设备包括：存储器，所述存储器包括存储在其上的编程指令；以及一个或多个处理器，所述一个或多个处理器被配置成能够执行所述存储的编程指令以便：

向光学扫描器装置提供指令，所述光学扫描器装置被配置成能够在所述测试物体的所述表面上产生定位元素，以按二维扫描图案将所述定位元素扫描到所述测试物体的所述表面上的多个点；

沿着所述测试物体的所述表面获得所述多个点中的每一者处的所述定位元素的图像的图像数据；以及

处理所述获得的图像数据以确定所述测试物体的表面轮廓，其中所述二维扫描图案减少所述表面轮廓中的表面纹路错误。

13.如权利要求12所述的设备，其中所述二维扫描图案包括锯齿状图案、正方形图案、三角形图案、正弦曲线形图案、伪随机图案、随机图案，或者它们的组合。

14.如权利要求12所述的设备，其中所述多个点包括所述测试物体的所述表面上的至少3个点。

15.如权利要求12所述的设备，其中所述二维扫描图案包括沿着主扫描轴线的线性扫描的多个循环，其中所述线性扫描的所述多个循环中的每一者沿着辅扫描轴线分开一定距离。