[发明专利]有机发光二极管显示面板、设备及其驱动方法和制造方法有效

专利信息
申请号: 201880000157.0 申请日: 2018-03-12
公开(公告)号: CN109257943B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 许名宏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 刘悦晗;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光二极管 显示 面板 设备 及其 驱动 方法 制造
【权利要求书】:

1.一种有机发光二极管显示面板,包括:

基底基板;

像素限定层,其位于所述基底基板上,用于限定出至少包括第一子像素、第二子像素和第三子像素的像素;

第一电极,其位于所述基底基板上并且位于所述第一子像素和所述第二子像素中;

第一有机发光层,其在所述第一子像素中且用于发出第一颜色的光,所述第一有机发光层位于所述第一电极的远离所述基底基板的一侧;

第二有机发光层,其在所述第二子像素中且用于发出第二颜色的光,所述第二有机发光层位于所述第一电极的远离所述基底基板的一侧;

第二电极,其位于所述第一有机发光层和所述第二有机发光层的远离所述第一电极的一侧,所述第一电极和所述第二电极构造为驱动所述第一子像素中的第一有机发光层的发光以及所述第二子像素中的第二有机发光层的发光;

第三有机发光层,其位于所述第二电极的远离所述基底基板的一侧,用于发出第三颜色的光;以及

第三电极,其位于所述第三有机发光层的远离所述基底基板的一侧,所述第二电极和所述第三电极构造为驱动所述第三有机发光层的发光;

所述第二电极包括分别位于多个像素中的多个第二电极块;在所述多个像素中的相邻像素中的多个第二电极块彼此绝缘;

所述像素限定层包括第一子层,其位于相邻像素之间的区域中并且不存在于相同像素中的相邻子像素之间的区域中;

所述第一子层具有实质上彼此相对的第一面和第二面以及连接所述第一面与所述第二面的第三面,所述第一面位于所述第二面的远离所述基底基板的一侧;

所述第一子层的所述第三面相对于所述第一子层的所述第二面具有大于60度的第一倾斜角;并且

在所述多个像素中的相邻像素中的多个第二电极块通过所述第一子层彼此绝缘。

2.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第三子像素在所述基底基板上的正投影与所述第一子像素在所述基底基板上的正投影至少部分地重叠,并且与所述第二子像素在所述基底基板上的正投影至少部分地重叠;并且

所述第一子像素在所述基底基板上的正投影和所述第二子像素在所述基底基板上的正投影彼此实质上不重叠。

3.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第二电极在所述基底基板上的正投影与所述第一电极在所述基底基板上的正投影至少部分地重叠。

4.根据权利要求3所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第二电极在所述基底基板上的正投影实质上覆盖所述第一电极在所述基底基板上的正投影。

5.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第三有机发光层在所述基底基板上的正投影与所述第一有机发光层在所述基底基板上的正投影至少部分地重叠,并且与所述第二有机发光层在所述基底基板上的正投影至少部分地重叠;并且

所述第一有机发光层在所述基底基板上的正投影和所述第二有机发光层在所述基底基板上的正投影实质上彼此不重叠。

6.根据权利要求5所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第三有机发光层在所述基底基板上的正投影实质上覆盖所述第一有机发光层在所述基底基板上的正投影和所述第二有机发光层在所述基底基板上的正投影。

7.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述第一子层的厚度在20nm至500nm的范围内。

8.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其中,所述像素限定层还包括第二子层,其位于相邻子像素之间的区域中;

所述第二子层位于所述第一子层的靠近所述基底基板的一侧;

所述第二子层具有实质上彼此相对的第四面和第五面以及连接所述第四面与所述第五面的第六面,所述第四面位于所述第五面的远离所述基底基板的一侧;

所述第二子层的第六面相对于所述第二子层的第五面具有第二倾斜角;并且

所述第二倾斜角小于所述第一倾斜角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880000157.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top