[实用新型]DH型等离子光氧工业废气处理设备

权利要求书

1.DH型等离子光氧工业废气处理设备，包括设备主体（1），所述设备主体（1）的内部为废气处理流道，所述设备主体（1）的两端分别为进气口（2）和出气口（3），且所述废气处理流道分别通过进气口（2）和出气口（3）与外界连通，其特征在于：所述设备主体（1）的外侧面上安装有两块间隔设置的催化棉门板（34），所述设备主体（1）内从进气口（2）至出气口（3）分别安装有均流网（6）、等离子高压电场发生组件（7）、UV光解发生器（8）和催化棉（9），所述等离子高压电场发生组件（7）相对安装有两个，所述设备主体（1）上固定有与所述等离子高压电场发生组件（7）相对应的定位安装组件；两个所述催化棉门板（34）分别安装有与所述等离子高压电场发生组件（7）相对应的高压静电电箱（4）以及与所述UV光解发生器（8）相对应的UV光解电箱（5）。

2.根据权利要求1所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述等离子高压电场发生组件（7）包括平行间隔分布的负极输入电极板（10）和正极输入电极板（12），在所述负极输入电极板（10）和所述正极输入电极板（12）之间安装有多根连接柱（11），在所述负极输入电极板（10）和所述正极输入电极板（12）之间还安装有多根绝缘管（13），在所述绝缘管（13）内分布有放电电极管（14）。

3.根据权利要求2所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述正极输入电极板（12）的外侧面顶端固定有安装片（15），所述安装片（15）上开设有一销孔（16），在所述安装片（15）上还开设有两个位于所述销孔（16）两侧的定位孔（17）。

4.根据权利要求3所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述定位安装组件包括固定柱（21）和伸缩柱（20），所述固定柱（21）内开设有供所述伸缩柱（20）端部嵌入的活动腔A（22），所述伸缩柱（20）的一端可往复活动地嵌入所述活动腔A（22）内，另一端伸出所述活动腔A（22），所述活动腔A（22）的端口处固定有限位环A（23），所述伸缩柱（20）的嵌入端外表面固定有限位环B（25），所述伸缩柱（20）上套设有处在所述限位环A（23）与所述限位环B（25）之间的伸缩弹簧A（24）；所述伸缩柱（20）的伸出端上垂直固定有销轴（18），所述销轴（18）的外侧面固定有两个相对分布的定位块（19），所述定位块（19）与所述定位孔（17）相对应。

5.根据权利要求1所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述设备主体（1）上开设有与所述催化棉（9）相对应的安装口（27），所述安装口（27）的顶端与底端分别固定有两个呈对夹式分布的夹条（26），所述夹条（26）的侧壁上安装有稳定组件。

6.根据权利要求5所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述稳定组件包括稳定弹块（33）和伸缩弹簧B（29），所述夹条（26）的侧壁上开设有供所述稳定弹块（33）端部嵌入的活动腔B（30），所述稳定弹块（33）的一端可往复活动地嵌入所述活动腔B（30）内，另一端伸出所述活动腔B（30），所述伸缩弹簧B（29）分布在所述稳定弹块（33）的嵌入端端面与所活动腔B（30）的腔底之间。

7.根据权利要求6所述的DH型等离子光氧工业废气处理设备，其特征在于：所述活动腔B（30）的侧壁上开设有两个相对分布的限位轨槽（28），所述稳定弹块（33）的嵌入端外表面固定有与所述限位轨槽（28）相匹配的限位凸块（31），且所述限位轨槽（28）的端口内侧固定有挡块（32），所述稳定弹块（33）的伸出端为半球体结构。