[实用新型]一种承片台及探针台有效

专利信息
申请号: 201822025953.X 申请日: 2018-12-05
公开(公告)号: CN209590078U 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 王胜利;李景均;杨应俊 申请(专利权)人: 深圳市矽电半导体设备有限公司
主分类号: G01R1/04 分类号: G01R1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 吸附环 晶粒 吸附平面 承片台 蓝膜 吸附 晶粒区域 探针台 真空吸附空间 本实用新型 真空控制孔 排气孔 探针 贴合 连通 环绕
【说明书】:

实用新型公开了一种用于吸附有晶粒蓝膜的承片台。所述承片台包括,吸附环槽;所述吸附环槽连通有一个或多个真空控制孔;所述吸附环槽用于吸附有晶粒蓝膜;吸附环槽吸附有晶粒蓝膜后,所述吸附环槽与有晶粒蓝膜构成真空吸附空间;吸附平面,晶粒区域正对应并贴合于所述吸附平面;所述吸附环槽环绕所述吸附平面;所述吸附平面上,位于吸附环槽和晶粒区域之间设置有排气孔。本实用新型还公开了一种探针台,该探针台包括上述的承片台。

技术领域

本实用新型涉及一种承片台及探针台。

背景技术

现有的用于测试有晶粒蓝膜的承片台,会存在吸附平面和晶粒区域之间停留有空气,影响发光二极管晶粒测试的准确性。

实用新型内容

为解决晶粒区域停留空气的问题,本实用新型提出一种承片台。

本实用新型的技术方案为:一种用于吸附有晶粒蓝膜的承片台,所述承片台包括,

吸附环槽;所述吸附环槽连通有一个或多个真空控制孔;所述吸附环槽用于吸附有晶粒蓝膜;吸附环槽吸附有晶粒蓝膜后,所述吸附环槽与有晶粒蓝膜构成真空吸附空间;

吸附平面,晶粒区域正对应并贴合于所述吸附平面;所述吸附环槽环绕所述吸附平面;

所述吸附平面上,位于吸附环槽和晶粒区域之间设置有排气孔。

进一步的,所述承片台包括,

基体,所述吸附环槽设置于所述基体上;所述基体设置有透光孔;所述吸附环槽环绕所述透光孔;

支撑台,所述支撑台为透光玻璃,所述吸附平面位于所述支撑台上;所述支撑台正对应所述透光孔并连接于所述透光孔内壁;所述排气孔连通所述透光孔。

进一步的,所述透光孔内壁设置有阶梯环;

所述支撑台远离吸附平面的一面沿阶梯环连接于基体。

进一步的,所述支撑台位于吸附平面侧的边沿设置有排气倒角;所述排气孔位于晶粒区域和排气倒角之间;

所述支撑台密封连接于基体;所述吸附环槽通过连通槽连通于排气倒角。

进一步的,所述吸附平面在正对应晶粒区域设置有出气孔。

进一步的,所述基体设置有放置环槽,所述放置环槽环绕所述吸附环槽。

一种探针台,所述探针台包括上述的承片台。

本实用新型的有益效果在于:保证晶粒区域贴合吸附平面前,吸附环槽已经吸附有晶粒蓝膜,晶粒区域与吸附平面间的空气因晶粒区域挤压而从排气孔排出;保证晶粒区域不受未排净的空气影响测试。

附图说明

图1为承片台结构示意图;

图2为承片台剖面示意图;

图3为有晶粒蓝膜吸附于承片台结构示意图;

图4为基体结构示意图;

图5为支撑台结构示意图;

图6为有晶粒蓝膜结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型的技术方案,下面将本实用新型的技术方案结合具体实施例作进一步详细的说明。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示,一种用于吸附有晶粒蓝膜40的承片台100,当然对于其它柔软的薄膜也可以用于所述场合,只要能够满足吸附于所述承片台100要求的薄膜均可;所述承片台100包括,

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