[实用新型]一种自动UV镭射机

权利要求书

1.一种自动UV镭射机，其特征在于，包括并排设置的用于输送治具的第一输送单元和第二输送单元，所述第一输送单元在输送方向上依次设置有用于分离治具及整平治具上的电感的整平单元和用于定位治具后将其推离第一输送单元的上料单元，所述第一输送单元和第二输送单元之间设置有同时接收两个治具、排列定位治具以及将治具移至第二输送单元的上下料平台，所述上下料平台的上方设置有能够在电感上剥漆的镭射单元。

2.如权利要求1所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述整平单元包括相对设置在第一输送单元两侧的进工位驱动源和退工位驱动源，所述退工位驱动源和第一输送单元之间设置有整平工位，所述整平工位的上方设置有整平驱动源，所述整平驱动源的自由端设置有整平板。

3.如权利要求2所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述整平单元包括沿第一输送单元输送方向依次设置的第一分离驱动源和第二分离驱动源。

4.如权利要求1所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述上料单元包括上料驱动源和横跨设置在第一输送单元上方的上料定位条，所述上料驱动源的自由端设置有上料升降驱动源，所述上料升降驱动源的自由端设置有上料推板，所述上料定位条的中心线将上料推板分成两部分。

5.如权利要求4所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述上下料平台包括上料支架，其上紧邻第一输送单元并列设置有第一缓冲平台和第二缓冲平台，所述上料定位条的中心延长线位于两个缓冲平台之间，所述第一缓冲平台和第二缓冲平台不相邻的两个侧边在第一输送单元的输送方向上依次设置有横推驱动源和平台定位挡板。

6.如权利要求5所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述第一缓冲平台和第二缓冲平台上均开设有下料槽，所述上料支架上设置有下料驱动源，其自由端设置有两个下料平台，两个所述下料平台分别位于两个下料槽内，所述镭射单元位于下料平台上方。

7.如权利要求6所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述下料平台之间设置有分隔条，其中心线和上料定位条的中心线重合，两个所述下料槽不相邻的侧边处分别设置有定位滚轮。

8.如权利要求1所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述第一输料单元包括第一输送带。

9.如权利要求1所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述第二输送单元包括第二输送带和清洁驱动源，所述清洁驱动源的自由端设置有毛刷，其位于第二输送带的上方。

10.如权利要求1所述的自动UV镭射机，其特征在于，所述镭射单元包括封闭的防尘罩和激光器，所述激光器设置在防尘罩内，所述防尘罩上开设有除尘孔。