[实用新型]一种硅片用自动清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片用自动清洗装置，包括承载板以及安装架，所述安装架安置于承载板上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构，本实用新型涉及硅片清洗技术领域，通过动态清洗结构实现了硅片的动态清洗过程，通过超声震动结构使得清洗的更加彻底，通过上述结构的相互配合，实现了硅片自动动态清洗的功能。

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，具体为一种硅片用自动清洗装置。

背景技术

微电子技术正在悄悄走进航空航天、工业、农业和国防，也正在悄悄进入每一个家庭，小小硅片的巨大“魔力”是我们的前人根本无法想象的。

然而目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率，鉴于此，针对上述问题，深入研究，遂有本案产生。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片用自动清洗装置，解决了目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种硅片用自动清洗装置，包括承载板以及安装架，所述安装架安置于承载板上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构；

所述动态清洗结构，其包括：第一伺服电机、连接杆、Y型旋转杆、活动杆、固定杆以及放置架；

所述第一伺服电机安置于安装架侧壁面，所述连接杆安置于第一伺服电机驱动端上，所述Y型旋转杆安置于连接杆上，所述活动杆活动连接与Y型旋转杆上，所述固定杆安置于活动杆侧壁面，所述放置架安置于Y型旋转杆另一侧端头上；

所述超声震动结构，其包括：第二伺服电机、安装板、支撑杆、一对结构相同的超声波发生器、一对结构相同的超声波换能器以及洗液盆；

所述第二伺服电机安置于承载板上壁面，所述安装板安置于第二伺服电机驱动端上，所述支撑杆安置于安装板上壁面，一对所述超声波发生器安置于安装板上壁面且位于支撑杆两侧，一对所述超声波换能器安置于一对所述超声波发生器端头上，所述洗液盆安置于支撑杆上。

优选的，所述洗液盆侧壁面安装有排水阀：该排水阀用于排放清洗液。

优选的，所述放置架内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片。

优选的，所述洗液盆侧壁面安装有喷头：该喷头用于二次清洗。

优选的，所述承载板下壁面安装有万向轮：该万向轮用于装置辅助移动。

优选的，所述洗液喷内壁面安装有密封垫：该密封垫放置清洗液泄漏泄漏。

有益效果

针对上述问题，本实用新型提供了一种硅片用自动清洗装置。具备以下有益效果:该装置设计合理，通过动态清洗结构实现了硅片的动态清洗过程，通过超声震动结构使得清洗的更加彻底，解决了目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率的问题。

附图说明

图1为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置主视结构示意图；

图2为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置俯视结构示意图；

图3为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置侧视结构示意图。