[实用新型]一种硅片用自动清洗装置

权利要求书

1.一种硅片用自动清洗装置，包括承载板(1)以及安装架(2)，其特征在于，所述安装架(2)安置于承载板(1)上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板(1)上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构；

所述动态清洗结构，其包括：第一伺服电机(3)、连接杆(4)、Y型旋转杆(5)、活动杆(6)、固定杆(7)以及放置架(8)；

所述第一伺服电机(3)安置于安装架(2)侧壁面，所述连接杆(4)安置于第一伺服电机(3)驱动端上，所述Y型旋转杆(5)安置于连接杆(4)上，所述活动杆(6)活动连接与Y型旋转杆(5)上，所述固定杆(7)安置于活动杆(6)侧壁面，所述放置架(8)安置于Y型旋转杆(5)另一侧端头上；

所述超声震动结构，其包括：第二伺服电机(9)、安装板(10)、支撑杆(11)、一对结构相同的超声波发生器(12)、一对结构相同的超声波换能器(13)以及洗液盆(14)；

所述第二伺服电机(9)安置于承载板(1)上壁面，所述安装板(10)安置于第二伺服电机(9)驱动端上，所述支撑杆(11)安置于安装板(10)上壁面，一对所述超声波发生器(12)安置于安装板(10)上壁面且位于支撑杆(11)两侧，一对所述超声波换能器(13)安置于一对所述超声波发生器(12)端头上，所述洗液盆(14)安置于支撑杆(11)上。

2.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)侧壁面安装有排水阀(15)：该排水阀(15)用于排放清洗液。

3.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述放置架(8)内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片。

4.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)侧壁面安装有喷头(16)：该喷头(16)用于二次清洗。

5.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述承载板(1)下壁面安装有万向轮(17)：该万向轮(17)用于装置辅助移动。

6.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)内壁面安装有密封垫(18)：该密封垫(18)防止清洗液泄漏。