[实用新型]一种水晶片电子元件清洗装置有效

专利信息
申请号: 201821775601.X 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN209481318U 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 罗小平 申请(专利权)人: 万安县泰鑫电子有限责任公司
主分类号: C02F9/02 分类号: C02F9/02;H01L21/67;B08B3/02;B08B3/14
代理公司: 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 代理人: 胡思棉
地址: 343800 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 清洗装置 水晶片 清洗 本实用新型 水循环装置 固定装置 滑块 晶片 水中 预处理 晶片放置 快速固定 清洗过程 清洗水源 转动螺栓 控制器 固定板 卤代烃 喷雾头 倾斜板 悬浮物 有机物 右端面 支撑座 风机 滑槽 滤除 吸附 余氯 脏水 晃动 水泵 喷洒 泥沙 转动
【说明书】:

实用新型公开了一种水晶片电子元件清洗装置,其结构包括箱体、风机、水循环装置、控制器、固定装置、倾斜板、滑槽和滑块,本实用新型一种水晶片电子元件清洗装置,通过设置水循环装置于箱体右端面,从而清洗过的脏水通过PPF滤芯进行预处理,滤除水中之泥沙,悬浮物,杂质等,再通过UDF滤芯吸附水中之巽味,巽色,余氯,卤代烃及有机物等对有人体有害的物质,从而水泵进行吸取通过喷雾头进行喷洒,解决了清洗水源无法进行循环,造成浪费的问题,通过设置了固定装置于滑块顶部,将需要进行清洗的晶片放置于支撑座上,通过转动转动螺栓使得固定板对晶片进行固定,实现在清洗过程中对晶片进行快速固定,解决清洗时稳定性不强,易晃动的问题。

技术领域

本实用新型是一种水晶片电子元件清洗装置,属于晶片清洗装置领域。

背景技术

半导体器件一般通过光刻,刻蚀,沉积以及化学机械研磨等上百道甚至上千道工序形成,每一道工序完成之后,用于制造半导体器件的晶片被传输到下一道工序的工艺设备中,在晶片传送过程中以及在前道工序的制造工艺中,不可避免的会在晶片背面产生颗粒,残留等污染物,在光刻工艺时,这些污染物会导致晶片在曝光机台上翘起,影响聚焦,进而影响对准以及半导体器件的关键尺寸,若该污染物附着在曝光机台上,还会影响其它批次的晶片,在晶片的传送过程中,是依靠真空吸附晶片背面进行的,若该污染物附着在晶片背面,会导致晶片的吸附力差或不能吸附,该晶片不得不报废,因此,对晶片背面的清洗是非常必要的,随着科学技术的飞速发展,一种水晶片电子元件清洗装置也得到了技术改进,但是现有技术清洗水源无法进行循环,造成浪费,清洗时稳定性不强,易晃动。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种水晶片电子元件清洗装置,以解决清洗水源无法进行循环,造成浪费,清洗时稳定性不强,易晃动的问题。

为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种水晶片电子元件清洗装置,包括箱体、风机、箱门、拉手、透视窗、电源线、支撑腿、水循环装置、控制器、固定装置、倾斜板、滑槽和滑块,所述风机设置有两个且顶端面呈圆形于箱体顶端面,所述箱体前端面内中部设置有箱门,所述拉手呈半弧状与箱门前端面上部进行转动螺栓连接,所述箱门前端面内中部设置有透视窗,所述箱体左端面底部设置有电源线,所述支撑腿设置有四组分别与箱体底端面四角进行转动螺栓连接,所述箱体右端面下部设置有水循环装置,所述箱体右端面上部设置有控制器,所述箱体内部底端设置有固定装置,所述滑槽设置有两组于箱体底端左右两端,所述滑块设置有两个与滑槽内进行滑动连接,所述水循环装置由水泵箱、第一连接管、集水箱、入水口、排水口、PPF滤芯、UDF滤芯、水泵、出水口、第二连接管和喷雾头组成,所述水泵箱右端面内中部与第一连接管顶部左端进行插接,所述第一连接管底部与集水箱顶端进行插接,所述水泵箱右端中部设置有入水口,并且入水口右端与第一连接管顶部左端进行插接,所述集水箱左端面底端设置有排水口,所述排水口右端面设置有 PPF滤芯,所述PPF滤芯右端面设置有UDF滤芯,所述水泵箱内设置有水泵,并且水泵右端与排水口左端进行插接,所述水泵顶部左端与出水口进行插接,所述出水口左端与第二连接管顶部右端进行插接,所述第二连接管底部设置有喷雾头,所述集水箱左端面与箱体进行转动螺栓连接,所述固定装置由固定板、挡座、支撑座、滤网、固定座、转动螺栓和固定板组成,所述挡座设置有四组分别与固定板顶端面四角进行转动螺栓连接,所述固定板顶端面设置有支撑座,所述固定板内中部与滤网进行转动螺栓连接,所述固定座设置有两个分别与固定板左右两端进行转动螺栓连接,所述固定座内中部与转动螺栓进行转动连接,所述转动螺栓内侧与固定板通过手弧焊的方式进行焊接,所述固定板底端与滑块进行螺栓连接,所述风机、电源线和水泵进行电连接。

进一步地,所述滤网单个网格尺寸为1*1平方毫米,并且厚度为3MM,有利于清洗水源下漏。

进一步地,所述转动螺栓外部设置有橡胶套,并且橡胶套上设置有防滑纹,有利于防止转动时造成手滑。

进一步地,所述支撑座设置有四个,并且均为长3CM,宽2CM,高2CM 的长方体,稳定性强,对晶片进行支撑。

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