[实用新型]一种炉筒抛光机构

说明书

本实用新型公开了一种炉筒抛光机构，其包括升降平台、固定打磨抛光机头和摆动打磨抛光机头，所述固定打磨抛光机头和所述摆动打磨抛光机头安装在所述升降平台的左右两侧；其中，所述固定打磨抛光机头水平固定安装在所述升降平台的一侧；所述摆动打磨抛光机头通过摆动臂安装在所述升降平台的另一侧，并通过支撑驱动装置驱使至少可在水平位置和竖立位置范围内摆动。本实用新型的炉筒抛光机构的结构和运行稳定可靠，适用于筒类反应炉的加工，可避免打磨死角，一次吊装就能够实现打磨、机械抛光和电化学抛光三种工序。

技术领域

本实用新型属于抛光设备技术领域，具体涉及一种炉筒抛光机构。

背景技术

目前，多晶硅的生产采用还原技术，该过程是在还原炉内完成的，三氯氢硅被氢气还原生成硅和氯化氢。在还原反应过程中，会产生多种杂质，特别是炭黑，炭黑附在还原炉内壁上，一方面会使原本具有热反射功能的镜面炉内壁污染，使热量无法实现反射，降低了热能利用率；另一方面，炭黑等杂质还会腐蚀内壁。由于生产过程中产生的多种问题，为了提高生产效率，并且降低电能损耗，在生产一段时间后，就需要对还原炉的内腔进行打磨抛光作业，使还原炉内腔恢复光洁。

常规来说，打磨、抛光炉内壁通常是由人工来完成的，劳动强度较大，且费时费力。申请号为CN201110096759.0(公开号为CN102180468A)的中国专利公开了“多晶硅还原炉及多晶硅还原炉内壁安装镜面的操作方法”，但该方案同样存在更换安装麻烦等问题。随着光伏行业的发展，也有人开始尝试研制自动化设备来对还原炉内腔进行打磨、抛光处理，如申请号为CN201420588977.5(公开号为CN204194401U)的中国专利“一种用于清洗多晶硅还原炉的内表面的装置”，其提出了一种比较概念化的集成装置，其提出了一种比较概念化的集成装置，试图替代人工进行检修处理，但是该设备中，打磨头和抛光刷只能上下调整，而不能翻转，使用该设备可以顺利对规则炉筒侧壁进行打磨抛光，但是对弧形的炉筒底部，打磨头和抛光刷难以触及，容易产生打磨死角，还需人工进行补充打磨抛光，打磨抛光效率还有待提高。

鉴于此，急需提供一种能够对炉筒包括侧壁和底部都能够进行全自动打磨、抛光处理的设备，以解决多晶硅生产企业关于还原炉的使用问题。

实用新型内容

因此，针对现有技术中炉筒抛光设备自动化程度不高且容易产生打磨死角、打磨抛光效率不高的技术问题，本实用新型的目的在于提供一种炉筒抛光机构，以实现炉筒包括侧壁和弧形底部都能够进行全自动的打磨和抛光处理，提高打磨抛光的效率。

本实用新型的炉筒抛光机构包括升降平台、固定打磨抛光机头和摆动打磨抛光机头，所述固定打磨抛光机头和所述摆动打磨抛光机头安装在所述升降平台的左右两侧；其中，所述固定打磨抛光机头水平固定安装在所述升降平台的一侧；所述摆动打磨抛光机头通过摆动臂安装在所述升降平台的另一侧，并通过支撑驱动装置驱使至少可在水平位置和竖立位置范围内摆动，且所述摆动打磨抛光机头摆动的弧形轨迹与所述固定打磨抛光机头处于同一竖直面内。

使用本实用新型的炉筒抛光机构加工炉筒时，可将炉筒抛光机构安装在升降机构上，而待加工的炉筒可倒扣在回转工作台上。工作时，所述炉筒抛光机构在升降机构的驱动下行至待加工炉筒内部，回转工作台可带动炉筒转动，而所述固定打磨抛光机头和所述摆动打磨抛光机头与炉筒内壁接触对其进行打磨抛光。其中，所述摆动打磨抛光机头在所述支撑驱动装置的驱使下，可在水平位置和竖立位置范围内摆动并固定，可对弧形的炉筒底部进行打磨抛光，避免打磨死角。

优选的，所述固定打磨抛光机头和所述摆动打磨抛光机头结构基本相同，各自包括安装板、砂轮装置和辅助装置，所述辅助装置为用于向炉筒内壁喷淋工作介质(比如电化学抛光液)的喷淋装置或用于机械抛光时向炉筒内壁加蜡的加蜡装置，所述砂轮装置和所述辅助装置安装在所述安装板上。当所述回转工作台带动待加工的炉筒进行旋转时，所述固定打磨抛光机头与所述摆动打磨抛光机头的工作头均可以接触到炉筒的内壁，且施力方向相互抵消，不会对待加工多晶硅还原炉产生额外的推力。