[实用新型]自动调节腔室内膜层厚度均匀性的装置和镀膜设备

说明书

本公开提供一种自动调节腔室内膜层厚度均匀性的装置和包括所述装置的镀膜设备。所述装置包括：位于腔室外的调节机构和位于腔室内的多组挡板，所述多组挡板位于溅射源与载板之间，其中每组所述挡板均与所述溅射源下方形成的镀膜区域内的一个单独区域的形状和尺寸相对应；所述调节机构与各组所述挡板连接，用于在所述镀膜区域内任意一个或多个单独区域处的载板膜厚超过预设膜厚时，根据所述单独区域处的载板膜厚与预设膜厚的差值驱动与所述单独区域对应的一组挡板向所述单独区域的方向移动，直至将所述单独区域部分或全部遮挡。本公开所述装置无需打开腔室就能调节载板上不同区域处的膜层厚度，从而使载板上各处的膜层厚度保持一致。

技术领域

本公开涉及镀膜技术领域，具体涉及一种自动调节腔室内膜层厚度均匀性的装置，以及包括所述装置的镀膜设备。

背景技术

在采用HIT(Heterojunction with intrinsic Thinlayer，本征薄膜异质结)结构的太阳能电池片生产线中，在真空腔室内镀膜完成后需要对晶体硅片上不同区域的膜层厚度进行测量，若有差异则需要针对膜层较薄区域再次镀膜，直至各个区域的膜层厚度基本一致。其中，HIT结构指的是，在晶体硅片上沉积一层非掺杂(本征)氢化非晶硅薄膜和一层与晶体硅掺杂种类相反的掺杂氢化非晶硅薄膜。

现有的镀膜工艺流程如下：

在真空腔室内镀膜完成后测量晶体硅片上不同区域的膜层厚度；在检测到不同区域的膜层厚度存在差异后，将腔室破除真空并打开腔室，手动调整遮挡物的位置，然后将腔室关闭，抽气达到预定真空度后再次进行镀膜，镀膜完成后再次测量各个区域的膜层厚度。如此反复，经多次打开、关闭腔室，以及调整遮挡物的位置，方可使晶体硅片上各个区域的膜层厚度基本一致。

可以看出，在现有镀膜工艺中，调整膜厚均匀性过程中需多次破空、打开腔室、抽真空然后才能镀膜，特别是在连续性的镀膜腔室内，抽真空所花费时间较长，所以调整膜厚均匀性需要花费很长时间，不利于连续生产。

实用新型内容

为了至少部分解决现有技术中存在的技术问题而完成了本公开。

解决本公开技术问题所采用的技术方案是：

根据本公开的一个方面，提供了一种自动调节腔室内膜层厚度均匀性的装置，其包括：位于腔室外的调节机构和位于腔室内的多组挡板，所述多组挡板位于溅射源与载板之间，其中每组所述挡板均与所述溅射源下方形成的镀膜区域内的一个单独区域的形状和尺寸相对应；所述调节机构与各组所述挡板连接，用于在所述镀膜区域内任意一个或多个单独区域处的载板膜厚超过预设膜厚时，根据所述单独区域处的载板膜厚与预设膜厚的差值驱动与所述单独区域对应的一组挡板向所述单独区域的方向移动，直至将所述单独区域部分或全部遮挡。

本公开中，各组挡板能够在调节机构的控制下，无需打开腔室，就能根据镀膜区域内各个单独区域处的载板膜厚与预设膜厚的差值，选择是否将各自对应的单独区域遮挡，以及遮挡多少，从而使得任意一个或多个单独区域处的载板膜厚超出预设膜厚时，对应位置处的载板因为挡板的遮挡而被少镀膜甚至不镀膜，进而使载板上各处的膜层厚度保持一致，相比于现有技术，本实施例所述装置减少了反复破空、打开腔室及抽真空的操作，极大地节省了调整膜厚均匀性的时间，有利于镀膜工艺的连续生产。

可选地，所述多组挡板按照多列的形式排列在所述载板上方，且排列方向与所述载板的运动方向垂直。

可选地，所述每组挡板仅包括一块挡板，所述一块挡板位于其对应的一个单独区域的一侧；当所述单独区域处的载板膜厚超过预设膜厚时，所述调节机构用于根据所述单独区域处的载板膜厚与预设膜厚的差值驱动与所述单独区域对应的一块挡板自所述单独区域的一侧向其相对的另一侧移动，直至遮挡住所述单独区域的预设面积。