[实用新型]防震激光刻蚀机

说明书

本实用新型提供一种防震激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F‑θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F‑θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，其特征在于：还包括避震器，避震器安装在机架下方，多个避震器支承着整个防震激光刻蚀机。本实用新型的防震激光刻蚀机不受外部震动的干扰，工作稳定，产品的良品率高。

技术领域

本实用新型涉及一种激光刻蚀设备，特别是涉及防震激光刻蚀机。

背景技术

激光刻蚀机是用于刻蚀显示触摸屏ITO薄膜、玻璃基底或PET基底银浆的激光刻蚀设备。其光路多采用二维振镜头和F-θ透镜组组合，二维振镜头安装在机架、升降机构或XY轴二维运动平台上，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部，被刻蚀的ITO薄膜或银浆薄膜放置在F-θ透镜下方的工作台上，二维振镜头的振动电机偏转使激光光束运动，再经F-θ透镜组聚焦的焦点轨迹为激光刻蚀的轨迹，也就是所要刻蚀的图形。

随着显示触摸屏显示精度和操作精度要求的不断提高，对激光刻蚀机的蚀刻精度也越来越高，这就要求激光刻蚀机精度高、工作稳定并且不受或少受外部环境的干扰。

在激光刻蚀机的实际使用过程中，高精度的激光刻蚀机往往受外部震动影响比较大，附近的机床启动、载重汽车的经过、重物的搬运等都会使安装激光刻蚀机的地基产生震动，而这种震动会使二维振镜头的振动电机的运动受到干扰，导致激光蚀刻的轨迹偏离设计的路线，使产品的良品率降低。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种防震激光刻蚀机，此防震激光刻蚀机不受外部震动的干扰，工作稳定，产品的良品率高。

为了达到上述目的，本实用新型的防震激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F-θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，其特征在于：还包括避震器，避震器安装在机架下方，多个避震器支承着整个防震激光刻蚀机。

因为本实用新型的防震激光刻蚀机包括机架、激光器、二维振镜头、F-θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统、计算机系统和避震器，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，避震器安装在机架下方，多个避震器支承着整个防震激光刻蚀机，而避震器有过虑或减小震动的作用，它能排除或减轻附近的机床启动、载重汽车的经过、重物的搬运产生震动对二维振镜头的振动电机的运动受到干扰，使激光蚀刻的轨迹不至于偏离设计的路线，激光蚀刻机工作稳定，产品的良品率高。

所述的防震激光刻蚀机，其特征在于：避震器为气垫式避震器。气垫式避震器避震频率宽，避震效果好；同时，气垫式避震器成本低，安装及维护方便。

所述的防震激光刻蚀机，其特征在于：选取的避震器承载负荷是其实际承载负荷的1.5~2.5倍。

本实用新型的防震激光刻蚀机不受外部震动的干扰，工作稳定，产品的良品率高。

附图说明

图1是本实用新型实施例的结构示意图。

具体实施方式

图1标记的说明：避震器1，机架2，Y轴运动平台3，吸附平台4，F-θ透镜组5，X轴运动平台6，二维振镜头7，激光器的激光头8。