[实用新型]自转位清洗装置及用于光固化组织工程支架清洗的装置

权利要求书

1.自转位清洗装置，其特征在于，由外壳体、内壳体、工件转位系统、超声波清洁系统和流体灌注系统组成；

由外壳体、内壳体、工件转位系统、超声波清洁系统和流体灌注系统组成；

在所述的外壳体内沿着水平方向设有一个内壳体，所述的内壳体内部形成一个圆柱形空腔，内壳体的一端设有与其可拆卸连接的密封盖，另一端封闭；

所述的工件转位系统设置在所述的空腔里，其用于固定待清洗的清洗件，并利用流体动能实现清洗件的自旋转；

所述的超声波清洁系统向内壳体的清洗液提供机械能，从而在液体内部产生微小气泡，这些气泡通过持续振动和不断爆裂，将附着在清洗件表面的残留树脂剥离；

所述的流体灌注系统一方面为清洗件提供自旋转的动力，另一方面不断的将清洗液输送到清洗件内部，实现清洗后，清洗液运出。

2.如权利要求1所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述内壳体的前、后两端分别设有与流体灌注系统液体相连的进口与出口，其外表面的上、下、左、右分别设有4条振子贴附轨道，所述振子贴附轨道为平面；且在内壳体后端面有一个半球形凹面。

3.如权利要求1所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述工件转位系统包括圆柱形固定篮、圆盘形磁石和螺旋桨；所述的圆柱形固定蓝设置在内壳体的内腔里，其一端设有与其可拆卸连接的篮盖，另一端通过圆盘形磁石吸附在所述螺旋桨的顶部平台上；所述的螺旋桨转轴安装在内壳体的端部，所述的流体灌注系统可以推动螺旋桨转动。

4.如权利要求3所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述圆盘形磁石的底面直径应在上述圆柱形固定篮底面直径的25％—40％之间。

5.如权利要求3所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述螺旋桨的叶片直径应在上述圆柱形固定篮底面直径的40％—85％之间，螺旋桨中间设有一个突出的顶部平台，顶部平台直径在上述圆盘形磁石的底面直径的80％—100％之间；螺旋桨转轴顶端为突出的半球形，其与上述内腔后端的半球形凹面组成可转动连接。

6.如权利要求1所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述超声波清洁系统包括手柄、四个振子、超声波发生器、四个弹簧、内固定环、外固定环、三个滑块、两个连杆、四个杠杆和四个支点；

所述超声波发生器安装在上述外壳体外侧面；所述的内固定环、外固定环与所述的内壳体同轴安装，依次设置在内壳体的外圈，在所述的内固定环和外固定环之间设有成环状分布的四个杠杆，四个杠杆分别与四个支点相互接触，且四个杠杆通过两个连杆连接成一个圈；所述的四个振子头部贴合在所述内壳体外表面的四条振子贴附轨道上，所述四个振子的柄部各自穿过一个弹簧，使弹簧位于振子头部和内固定环之间，其中两个振子的柄部末端连接在杠杆上，另外两个振子的柄部末端连接在连杆上；所述的手柄穿过外壳体和外固定环与其中一个连杆相连；所述的3个滑块设置在外固定环的外部，可以沿着设置在外壳体内侧面的滑道滑动。

7.如权利要求6所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述内固定环上设有4个小孔，孔的直径大小在4个振子的头部与柄部直径之间。

8.如权利要求1所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述的外壳体顶部与左右两侧设有3条滑道，外壳体上还设有注液口。

9.如权利要求1所述的自转位清洗装置，其特征在于，所述流体灌注系统包括泵、调速器和储液箱；所述的泵与调速器通过导线连接，泵固定在外壳体底部，泵的出口通过管道与所述内壳体前端的液体进口联通；所述储液箱的顶部设有注液口，储液箱中间设有过滤网，过滤网上部的箱壁上设有进口，过滤网下部的箱壁上设有出口；所述储液箱的进口通过管道与所述内壳体后端的液体出口联通，储液箱的出口通过管道与泵的入口联通，储液箱的注液口通过管道与外壳体上的注液口联通。

10.一种用于光固化组织工程支架清洗的装置，其特征在于，采用权利要求1-9所述的自转位清洗装置。