[实用新型]一种晶片的自动清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种晶片的自动清洗装置，包括升降装置，所述升降装置设有升降杆，所述升降杆上设有若干旋转装置，所述旋转装置绕升降杆旋转；所述旋转装置上设有支架，所述支架一端固接旋转装置，其另一端通过定位孔连接挂架，所述挂架下连接有清洗槽；所述支架上设有滑块，所述滑块由电机驱动在支架上做往复运动；所述滑块通过连杆连接挂架。本结构的自动清洗装置，具备如下优点：1）清洗效果好，清洁度高且清洁度一致，有效提高产品质量的稳定性；2）清洗速度快，提高清洗效率，降低生产成本；3）明显降低工人的劳动量，为工人节约大量的时间。

技术领域

本实用新型涉及晶片加工领域，尤其涉及压电石英晶体厚度片、频率片的清洗设备。

背景技术

超声波清洗方式其清洗效果超过一般的常规清洗方法，特别是工件的表面比较复杂，或者一些特别小而对清洁度有较高要求的产品，使用超声波清洗都能达到很理想的效果。压电晶体行业频率片的清洗要求很高，使用常规方式很难达到要求，因此目前对晶片的清洗多采用超声波清洗方式。但是由于超声波在液体中传播，使的液体与清洗槽在超声波频率下一起振动，发出很强烈的嗡嗡声，让人难以忍受。由于生产线上超声波清洗劳动量大，晶片清洗不均匀，不彻底，清洗过程中的产品合格率受人员的影响很大。

现有技术中，也有针对上述问题提出的技术方案，比如申请号为CN201320162031.8一种用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽和固定在清洗槽上的提拉转片装置，所述提拉转片装置包括与清洗槽两侧固定连接的纵向导向柱、提升支架和片盒，所述提升支架两侧穿设在纵向导向柱上，所述片盒固定在提升支架下端，片盒下方还设有转轴。该清洗装置能同时上下提拉和转动蓝宝石晶片，使晶片相对于超声波波源和片盒做相对运动，有效解决因驻波和晶片表面清洗死角产生的晶片表面色差问题。该方案其清洗效率低，无法高效快速的清洗。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决现有技术的不足，提供一种能实现自动均匀清洗、噪声低、效率高，有效避免人为因素对产品质量影响的清洗设备。

本实用新型采用的技术方案是：一种晶片的自动清洗装置，包括升降装置，所述升降装置设有升降杆，所述升降杆上设有若干旋转装置，所述旋转装置绕升降杆旋转；所述旋转装置上设有支架，所述支架一端固接旋转装置，其另一端通过定位孔连接挂架，所述挂架下连接有清洗槽；所述支架上设有滑块，所述滑块由电机驱动在支架上做往复运动；所述滑块通过连杆连接挂架。

作为本实用新型的进一步改进，所述旋转装置的数量为2～4个。

作为本实用新型的更进一步改进，相邻清洗槽之间通过三级流水管相连。

本实用新型采用的有益效果是：本结构的自动清洗装置，具备如下优点：1）清洗效果好，清洁度高且清洁度一致，有效提高产品质量的稳定性；2）清洗速度快，提高清洗效率，降低生产成本；3）明显降低工人的劳动量，为工人节约大量的时间。

附图说明

图1为本实用新型示意图。

图中所示：1 升降装置，2 升降杆，3 旋转装置，4 支架，5 定位孔，6 挂架，7 滑块，8 连杆，9 清洗槽，10 三级流水管。

具体实施方式

下面结合图1，对本实用新型做进一步的说明。

如图1所示，一种晶片的自动清洗装置，包括升降装置1，所述升降装置1设有升降杆2，所述升降杆2上设有若干旋转装置3，所述旋转装置3绕升降杆2旋转；所述旋转装置3上设有支架4，所述支架4一端固接旋转装置3，其另一端通过定位孔5连接挂架6，所述挂架6下连接有清洗槽9；所述支架4上设有滑块7，所述滑块7由电机驱动在支架4上做往复运动；所述滑块7通过连杆8连接挂架6。