[实用新型]一种化学气相沉积炉的支承装置有效
| 申请号: | 201821256185.2 | 申请日: | 2018-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN208517527U | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
| 发明(设计)人: | 南志华;翟雨佳;刘平;陈锐;侯振华;李文红;朱佰喜 | 申请(专利权)人: | 深圳市石金科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 罗伟富 |
| 地址: | 518105 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 支承件 支承段 支承 支承装置 交替段 滑槽 化学气相沉积炉 交替驱动 支承机构 上端 下端 沉积 薄膜 移动 本实用新型 驱动 动力机构 基体表面 支承基体 下端面 两组 | ||
1.一种化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,包括用于交替对基体进行支承的交替支承机构,所述交替支承机构包括至少两组支承件和用于驱动支承件交替支承基体的交替驱动机构;
其中,所述交替驱动机构包括至少两个设置在支承板上呈环形的滑槽以及用于驱动支承件在滑槽中移动的动力机构;所述滑槽包括支承段和交替段,所述交替段的高度低于支承段的高度;每组支承件至少包括两个支承件,且沿着圆周方向均匀分布在滑槽的上方;
当支承件的下端移动至支承段时,其上端支承在基体的下端面,当支承件的下端移动至交替段时,其上端远离基体;工作时,至少有一组支承件位于支承段上。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,还包括多个用于防止基体离心甩出的挡杆。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述挡杆为三个,且沿着圆周的方向均匀设置。
4.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述挡杆的竖向投影呈半圆形结构。
5.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述动力机构包括连接在挡杆之间的驱动臂和用于驱动挡杆进行自转运动的自转轮;
所述支承件通过滑动轴套穿过驱动臂并竖向延伸在支承板的上方。
6.根据权利要求5所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述自转轮设置在挡杆的下方,下端设有自转齿轮;所述自转齿轮与转盘固定连接且同心的固定齿轮啮合。
7.根据权利要求6所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述自转轮的底端通过轴向轴承连接在转盘上;所述支承板的下端通过固定柱穿过自转轮的转动中心和转盘往下延伸,并固定在转盘上。
8.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述支承件的顶端和底端均设有滚球。
9.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,所述支承件为两组,每组包括三个支承件;所述滑槽为两个,其中的支承段和交替段均为三个;
沿着径向的方向,两个滑槽中的交替段交错设置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





