[实用新型]一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号: | 201820515902.2 | 申请日: | 2018-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN208182859U | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
| 发明(设计)人: | 张山山;李险峰;陆赵然;沈晓晨;邱宏;刘宇 | 申请(专利权)人: | 中建材光电装备(太仓)有限公司 |
| 主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
| 地址: | 215400 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氮化硅层 本实用新型 氧化锌层 镍铬层 钢化 银层 低辐射镀膜玻璃 玻璃基 硅基 膜层 磁控溅射工艺 镀膜玻璃 隔热性能 工艺过程 膜系结构 依次层叠 遮阳系数 辐射率 结合力 靶材 顶面 高端 可控 制备 搭配 | ||
本实用新型公开一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基底,玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层;本实用新型合理搭配各膜层厚度,膜系结构合理,具有优异的结合力,良好的隔热性能,膜层稳定,满足钢化要求,辐射率低至0.02,兼具低U值、低遮阳系数等优点,满足对高端镀膜玻璃的要求;本实用新型只需采用常规靶材,利用磁控溅射工艺即可制备,成本低、工艺过程可控、稳定性高。
技术领域
本实用新型涉及功能玻璃技术领域,具体是一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃在市场经济的推动下发展迅速,现已从最初的单银低辐射镀膜玻璃发展为高端三银低辐射镀膜玻璃,随着人们低碳环保意识的不断增加,高端镀膜产品必然会逐步成为市场需求趋势。
三银低辐射镀膜玻璃相比其余低辐射产品而言,具有高隔热、低辐射、低遮阳以及高的选择系数等一系列优点。相比而言,在三银产品结构中,膜层数目及银层数目远远多于其余低辐射镀膜玻璃产品,导致了各企业在开发三银镀膜玻璃时遇到各种难题,如膜层材料的选择、角度色差以及在钢化过程中膜层的不稳定等问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃,该玻璃膜系具有优异的结合力,良好的隔热性能,膜层稳定,可钢化。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基底,玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、第一银层、第一氧化锌层、第二氮化硅层、第二镍铬层、第二银层、第二氧化锌层、第三氮化硅层、第三镍铬层、第三银层、第三氧化锌层与第四氮化硅层;
所述第一氮化硅层的厚度为15~45nm、第一镍铬层的厚度为1~3nm、第一银层的厚度为3~9nm、第一氧化锌层的厚度为5~15nm、第二氮化硅层的厚度为45~75nm、第二镍铬层的厚度为1~2nm、第二银层的厚度为7~15nm、第二氧化锌层的厚度为5~15nm、第三氮化硅层的厚度为55~70nm、第三镍铬层的厚度为1~2nm、第三银层的厚度为9~15nm、第三氧化锌层的厚度为5~15nm、第四氮化硅层的厚度为35~55nm。
本实用新型的有益效果是,采用玻璃基底/第一氮化硅层/第一镍铬层/第一银层/第一氧化锌层/第二氮化硅层/第二镍铬层/第二银层/第二氧化锌层/第三氮化硅层/第三镍铬层/第三银层/第三氧化锌层/第四氮化硅层的复合膜系结构,第一氮化硅层、第二氮化硅层、第三氮化硅层与第四氮化硅层作为介质层,第一镍铬层、第二镍铬层与第三镍铬层作为保护层,并合理搭配各膜层厚度,膜系结构合理,具有优异的结合力,良好的隔热性能,膜层稳定,满足钢化要求,辐射率低至0.02,兼具低U值、低遮阳系数等优点,满足对高端镀膜玻璃的要求;本实用新型只需采用常规靶材,利用磁控溅射工艺即可制备,成本低、工艺过程可控、稳定性高。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
实施例一
如图1所示,本实用新型提供一种硅基可钢化三银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基底11,玻璃基底11顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层21、第一镍铬层22、第一银层23、第一氧化锌层24、第二氮化硅层31、第二镍铬层32、第二银层33、第二氧化锌层34、第三氮化硅层41、第三镍铬层42、第三银层43、第三氧化锌层44与第四氮化硅层45;
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