[实用新型]一种用于芯片烧录机自动编带装置的料盘安装结构有效

专利信息
申请号: 201820438464.4 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN208134710U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 陈冬兵 申请(专利权)人: 苏州欣华锐电子有限公司
主分类号: B65B15/04 分类号: B65B15/04
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 陶纯佳
地址: 215000 江苏省苏州市迎*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 编带装置 竖向支架 载膜 水平支架 芯片烧录 料盘 安装结构 竖向平面 收料盘 收膜盘 送料盘 左端部 底端 飞达 膜盘 本实用新型 垂直交叉 垂直连接 顶端安装 平台横向 影响芯片 后侧面 前侧面 上下料 十字形 固接 固装 料模 送料
【说明书】:

实用新型提供了一种用于芯片烧录机自动编带装置的料盘安装结构,其能解决现有受多个料盘自重影响芯片上下料精度、芯片烧录质量的问题。水平支架的右侧端与第二竖向支架的顶端垂直连接后固装于自动编带装置的载膜平台左端部后侧面且沿自动编带装置的载膜平台横向水平延伸,水平支架上靠近载膜平台一侧的前侧面呈十字形垂直交叉固接有第一竖向支架,水平支架的左端部安装有收料盘,第一竖向支架的顶端安装有料模盘、底端安装有送膜盘,第二竖向支架的底端安装有送料盘,自动编带装置的载膜平台的后侧设有送料用飞达组件,飞达组件的左侧端安装有收膜盘,收膜盘与送料盘位于同一竖向平面内,送膜盘与收料盘位于同一竖向平面内。

技术领域

本实用新型涉及芯片烧录技术领域,具体为一种用于芯片烧录机自动编带装置的料盘安装结构。

背景技术

通常编带式芯片烧录机由于放料盘、收料盘以及封膜装置多是通过相应的支架一体安装于烧录机平台上,因而会大量挤占芯片烧录机平台上烧录器的安装空间,从而导致烧录机上烧录工位较少,严重影响烧录操作效率,同时也会导致整个芯片烧录机的体积庞大;同时,由于其采用了一体结构,使得整个芯片烧录机只能适用于编带芯片的烧录而无法应用于盘装芯片的烧录作业,导致该种芯片烧录机的通用性较差。为此,目前本领域内出现了将送、收料盘机构以及封膜机构集成到一外置的且可拆卸地安装于烧录机工作平台进料口的自动编带装置,其虽然不会占用大量机台空间,但是由于这种自动编带装置呈直线型布置且是采用悬挑的形式安装于烧录机工作平台的进料口端,特别是为了满足对烧录后芯片的打点、检测、及封装要求,各个料盘都是集中设置于自动编带装置的左侧端,因而受到各料盘以及加载于各料盘上的编带盘的自重影响,往往会使得整个自动编带装置处于前轻后重的状态,尤其是当自动编带装置前端长时间悬挑安装于烧录机工作平台上后会产生失稳,从而影响芯片的可靠上下料,既而影响芯片烧录质量。

实用新型内容

针对上述问题,本实用新型提供了一种用于芯片烧录机自动编带装置的料盘安装结构,其能解决现有受多个料盘自重影响而导致自动编带装置安装失稳并影响芯片上下料精度、芯片烧录质量的问题。

其技术方案为,一种用于芯片烧录机自动编带装置的料盘安装结构,其特征在于:其包括固设于自动编带装置的载膜平台左侧端的料盘支架,所述料盘支架包括水平支架、第一竖向支架和第二竖向支架,所述水平支架的右侧端与所述第二竖向支架的顶端垂直连接后固装于自动编带装置的载膜平台左端部后侧面,所述水平支架沿自动编带装置的载膜平台横向水平延伸,所述水平支架上靠近所述载膜平台一侧的前侧面呈十字形垂直交叉固接有所述第一竖向支架,所述水平支架的左端部安装有收料盘,所述第一竖向支架的顶端安装有料模盘、底端安装有送膜盘,所述第二竖向支架的底端安装有送料盘,自动编带装置的载膜平台的后侧设有送料用飞达组件,所述飞达组件的左侧端安装有收膜盘,所述收膜盘、送料盘以及料模盘位于同一竖向平面内,所述送膜盘与收料盘位于同一竖向平面内。

进一步的,所述水平支架的左端后侧面安装有收料电机,所述收料盘与所述收料电机的输出端轴接,所述水平支架上的前侧面开设有沿水平方向延伸的第一凹槽,所述收料电机与设置于自动编带装置的载膜平台前侧的控制箱通过第一线缆电控连接,所述第一线缆嵌装于所述第一凹槽内。

进一步的,所述第二竖向支架底端的后侧面固接有一直角支架,所述直角支架的前侧面上安装有送料电机,所述送料电机的输出轴穿过所述直角支架后与所述送料盘轴接,所述送料电机通过第二线缆与设置于自动编带装置的载膜平台前侧的控制箱电控连接,所述第二竖向支架上开设有竖向延伸的第二凹槽,所述第二线缆嵌装于所述第二凹槽内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州欣华锐电子有限公司,未经苏州欣华锐电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820438464.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top