[实用新型]一种高性能裸露式电加热器有效

专利信息
申请号: 201820274606.8 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN208104601U 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 李文良;宋新南 申请(专利权)人: 镇江东方电热科技股份有限公司
主分类号: C30B25/10 分类号: C30B25/10
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 汤磊
地址: 212132 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 加热元件 负极板 正极板 反射板 本实用新型 电加热器 负极柱 绝缘件 裸露式 正极柱 支撑件 电加热器结构 间距设置 结构稳固 连续加热 上下层叠 短路 断路 导电件 电性能 结构件 均匀性 温度场 穿设 绝缘 替代 保证
【说明书】:

实用新型公开了一种高性能裸露式电加热器,包括正极板、负极板、加热元件、支撑件、绝缘件、反射板、正极柱、负极柱,加热元件、正极板、负极板上下层叠间距设置,加热元件在正极板、负极板上方,加热元件、正极板、负极板之间均设有反射板,加热元件通过穿设于正极板、负极板、反射板的支撑件进行固定,正极柱、负极柱分别设置在加热元件的两端,并与正极板、负极板对应连接,绝缘件设置在导电件与结构件之间进行绝缘。本实用新型的优点是:电加热器结构设计保证温度场水平、均匀性和稳定性,连续加热,结构稳固,电性能可靠,不会发生短路、断路等故障,符合MOVCD工艺的需求,可替代国外产品,降低成本。

技术领域

本实用新型涉及电加热器,特别是MOVCD设备的电加热装置。

背景技术

MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)是指一种在高真空、高温条件下在惰性衬底上外延生长特殊人工晶体材料的工艺方法,例如以Ⅲ(B、Al、Ga、In) 族、Ⅱ(Be、Mg、Ca、Sr、Ba)族元素的有机化合物,以及V族(N、P、As、Sb)、Ⅵ(O、S、Se、Te)族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在硅单晶、蓝宝石等衬底上,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。通常,人们也把实现MOCVD工艺的设备,简单称为MOCVD。 MOCVD设备主要作为生产LED(Light Emitting Diode,发光二极管)、MMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit,单片微波集成电路)、VLSI(Very Large Scale Integration,超大规模集成电路)等电子芯片的关键设备,因而得到超常规的发展,需求量不断增长。

由于MOCVD工艺是在高真空、高纯净、高温,并且使用非常特殊、昂贵的材料下实现的,其系统组成相当复杂,基本系统组成可以分为物质源供给、气体输运、反应室和加热、尾气处理、安全保护及报警、手动和自动控制、环境控制等7个系统。其中的加热工艺过去多采用高频感应加热,但其加热温度不够均匀,控制精度方面也存在问题,因而目前多采用电阻辐射加热。但是目前MOCVD系统及其生产技术主要为国外垄断,导致MOCVD设备的价格很高。

实用新型内容

实用新型目的:针对上述问题,本实用新型的目的是提供一种加热温度分布均匀的 MOVCD设备的电加热器,成本较低。

技术方案:一种高性能裸露式电加热器,包括正极板、负极板、加热元件、支撑件、绝缘件、反射板、正极柱、负极柱,所述加热元件、正极板、负极板上下层叠间距设置,所述加热元件在所述正极板、负极板上方,所述加热元件、正极板、负极板之间均设有所述反射板,所述加热元件通过穿设于所述正极板、负极板、反射板的所述支撑件进行固定,所述正极柱、负极柱分别设置在所述加热元件的两端,并与所述正极板、负极板对应连接,所述绝缘件设置在导电件与结构件之间进行绝缘。

进一步的,所述加热元件至少为两个,上下层叠间距设置。

进一步的,还包括设置在所述加热元件外圈的绝缘子,所述绝缘子通过所述支撑件进行固定。

进一步的,所述正极板、负极板、反射板之间通过支柱固定间距。

进一步的,所述电加热器的输入电源为50V直流电。

进一步的,所述支撑件与所述加热元件的接触部位为弧面,撑托加热元件。

有益效果:与现有技术相比,本实用新型的优点是:电加热器结构设计保证温度场水平、均匀性和稳定性,连续加热,结构稳固,电性能可靠,不会发生短路、断路等故障,符合MOVCD工艺的需求,可替代国外产品,降低成本。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为加热元件的结构示意图;

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