[实用新型]CMP设备腔室保湿用喷雾器

说明书

本实用新型公开了一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，CMP设备腔室保湿用喷雾器包括：储液罐；喷雾管座，喷雾管座设在储液罐上，喷雾管座上设有进液接头以向储液罐内注入液体；喷雾组件，喷雾组件与喷雾管座相连，喷雾组件包括：喷液吸管，喷液吸管的一端与储液罐连通；二流体喷雾头，二流体喷雾头设在喷液吸管的另一端以将储液罐内的液体雾化喷出。根据本实用新型实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。

技术领域

本实用新型涉及精密加工技术领域，特别是涉及一种CMP设备腔室保湿用喷雾器。

背景技术

相关技术中，采用喷液管路加喷嘴的形式对需要清洗保湿的表面进行定向喷洒DIW(Deionized Water，去离子水)，从而达到保湿的作用。然而，上述技术方案存在一定的不足：例如，对喷嘴的喷射角度以及覆盖面积要求比较高，通常不能调节或仅能实现很小范围的调节，容易出现喷射不到的死角，且一般水流比较大，既消耗DIW形成浪费，还很容易顺着腔室周围的防护板流到机台外部。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，所述CMP设备腔室保湿用喷雾器的喷雾范围扩大，使用性能好。

根据本实用新型实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，包括：储液罐；喷雾管座，所述喷雾管座设在所述储液罐上，所述喷雾管座上设有进液接头以向所述储液罐内注入液体；喷雾组件，所述喷雾组件与所述喷雾管座相连，所述喷雾组件包括：喷液吸管，所述喷液吸管的一端与所述储液罐连通；二流体喷雾头，所述二流体喷雾头设在所述喷液吸管的另一端以将所述储液罐内的液体雾化喷出。

根据本实用新型实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。

另外，根据本实用新型上述实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器还具有如下附加的技术特征：

根据本实用新型的一些实施例，所述喷雾组件还包括：活动空心软管，所述喷液吸管的至少一部分位于所述活动空心软管内，所述活动空心软管的一端与所述喷雾管座相连且另一端与所述二流体喷雾头相连。

进一步地，所述喷雾组件包括至少两个，所述至少两个喷雾组件在所述喷雾管座上间隔布置。

根据本实用新型的一些实施例，所述二流体喷雾头包括：喷雾座，所述喷雾座的中部形成有中心通孔；进气接头，所述进气接头通过所述喷雾座上的第一安装位与所述喷雾座相连；软管接头，所述软管接头通过所述喷雾座上的第二安装位与所述喷雾座相连；喷雾帽，所述喷雾帽通过所述喷雾座上的第三安装位与所述喷雾座相连，所述喷雾帽具有与所述中心通孔同轴设置的喷孔。

更进一步地，所述喷雾座与所述喷雾帽之间还设有密封件，所述喷雾座与所述喷雾帽之间通过螺钉相连。

进一步地，所述第三安装位的内底面的周缘设有密封件容纳槽，所述密封件的一部分位于所述密封件容纳槽外并止抵所述喷雾帽；其中，所述喷雾帽、所述密封件以及所述喷雾座之间形成有连通所述软管接头的液体流道。

进一步地，所述喷雾座上设有连通孔，所述连通孔的一端与所述软管接头连通且另一端与所述液体流道连通。

更进一步地，所述喷液吸管的所述另一端插接至所述连通孔内，且所述喷液吸管与所述连通孔过盈配合。

具体地，所述进气接头内形成有进气通道，所述喷雾座邻近所述第一安装位处设有通气孔，所述通气孔的一端与所述进气通道连通且另一端与所述中心通孔连通；其中，所述中心通孔邻近所述喷孔的一端的径向尺寸小于所述中心通孔远离所述喷孔的一端的径向尺寸。