[实用新型]一种真空控制系统

说明书

本实用新型公开了一种真空控制系统，包括精馏装置、压力传感器、真空控制阀和控制系统，其特征在于：所述压力传感器安装在精馏装置的顶部，且该压力传感器连接控制系统，所述控制系统连接真空控制阀，所述真空控制阀安装在精馏装置与真空系统交汇处。本实用新型结构简单，操作简便，通过设计真空控制阀可以使精馏装置稳定在某个特定压力，为化工原料在特定压力下精馏分离创造了条件，扩大了物料分离的压力环境选择范围。因此本实用新型能保持特定真空度，解决现有真空系统中的绝对压力总是不断变换并接近真空设备的真空极限的不足，具有较好的实用性，适合广泛地推广使用。

技术领域

本实用新型涉及一种化工领域物料精馏系统，尤其涉及一种真空控制系统。

背景技术

精馏提纯是化工企业常用的物料分离方法，精馏利用了不同物质在不同的压力环境下沸点不同的特点来分离不同的物料组份。不同的物料混合在一起，分离时可能会选择不同的压力环境。虽然现有的真空设备具备在一定真空极限下的抽气能力，但是在工艺过程中，工艺系统中的绝对压力总是不断接近真空设备的真空极限。当工艺需求低于极限真空下的某个特定真空度时，现有的真空系统则难以满足。

实用新型内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本实用新型旨在提供一种真空控制系统。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

本实用新型公开了一种真空控制系统，包括精馏装置、压力传感器、真空控制阀和控制系统，所述压力传感器安装在精馏装置的顶部，且该压力传感器连接控制系统，所述控制系统连接真空控制阀，所述真空控制阀安装在精馏装置与真空系统交汇处。

为了进一步改善产品的实用性，所述控制系统安装在控制系统内。

为了进一步改善产品的实用性，所述控制系统上设有显示屏。

为了进一步改善产品的实用性，所述压力传感器上设有压力显示器。

为了进一步改善产品的实用性，所述真空控制阀采用膜片式压力感应。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单，操作简便，通过设计真空控制阀可以使精馏装置稳定在某个特定压力，为化工原料在特定压力下精馏分离创造了条件，扩大了物料分离的压力环境选择范围。因此本实用新型能保持特定真空度，解决现有真空系统中的绝对压力总是不断变换并接近真空设备的真空极限的不足，具有较好的实用性，适合广泛地推广使用。

附图说明

图1为本实用新型示意图。

图中：1、精馏装置，2、压力传感器，3、真空控制阀，4、控制系统。

具体实施方式

以下结合附图和具体的实施例对本实用新型作进一步描述，但并不因此而限制本实用新型的保护范围。

如图1所示，本实用新型所述的一种真空控制系统，包括精馏装置1、压力传感器2、真空控制阀3和控制系统4，所述压力传感器2安装在精馏装置1的顶部，且该压力传感器2连接控制系统4，所述控制系统4连接真空控制阀3，所述真空控制阀3安装在精馏装置1与真空系统交汇处。

为了进一步改善产品的实用性，所述控制系统安装在控制系统内。

为了进一步改善产品的实用性，所述控制系统上设有显示屏。可以根据实时压力测量电信号，显示真实压力数值。

为了进一步改善产品的实用性，所述压力传感器上设有压力显示器。压力传感器可以将精馏装置内实际压力转变为电信号，传输到控制系统内的控制系统并显示出来，控制系统输出的信号控制真空调节阀。

为了进一步改善产品的实用性，所述真空控制阀采用膜片式压力感应。