[发明专利]双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃工艺在审
| 申请号： | 201811631094.7 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109678344A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 王志坚;王涛;刘爽 | 申请（专利权）人： | 常州华美光电新材料有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C03C17/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高反射 涂釉 双玻组件 发黑 玻璃工艺 钛白粉 玻璃粉 树脂类 玻璃 粉料 得到混合物 搅拌反应釜 玻璃制备 电池组件 发电效率 制备工艺 发电 金红石 牢固性 重量份 油墨 背面 电池 保证 | ||
1.双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃，其特征在于，防止PID发黑的高反射涂釉玻璃由以下重量份材料制成：钛白粉20-40份、玻璃粉15-25份、树脂类的粉料27-38份。
2.根据权利要求1所述的双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃，其特征在于：所述钛白粉为一种金红石形钛白粉。
3.根据权利要求1所述的双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃，其特征在于：所述玻璃粉为安米微纳一种无机类方体硬质超细颗粒粉末，生产中使用原料为PbO、SiO2、TiO2等电子级原料混匀后，再高温进行固相反应，形成无序结构的玻璃均质体。
4.根据权利要求1所述的双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃工艺，该制备工艺适用于防止PID发黑的高反射涂釉玻璃中，其特征在于，该双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃工艺包括以下步骤：
步骤一、将钛白粉20-40份、玻璃粉15-25份、树脂类的粉料27-38份以此倒入搅拌反应釜中，搅拌时间需要控制在30分钟以上，并且静置2小时，得到混合物A；
步骤二、将步骤一种的混合物A使用120-200目的网板对其进行过滤，得到油墨层，并且油墨层的厚度控制在15-25um之间，对油墨层进行固化，固化后表面形成粉末状，最终制得防止PID发黑的高反射涂釉玻璃。
5.根据权利要求1所述的双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃工艺，其特征在于：油墨的粘度适用于9000-10000psi。
6.根据权利要求1所述的双玻组件防止PID发黑的高反射涂釉玻璃工艺，其特征在于：固化温度90-110度，固化时间35-45秒。
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