[发明专利]半导体焊片排布装置有效
| 申请号: | 201811627434.9 | 申请日: | 2018-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN109712900B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
| 发明(设计)人: | 黄晓波 | 申请(专利权)人: | 安徽龙芯微科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/677 |
| 代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 成艳 |
| 地址: | 243000 安徽省马*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 排布 装置 | ||
1.半导体焊片排布装置,其特征在于:包括支撑机构、动力机构、上料机构和下料机构,所述上料机构和下料机构并排设置在支撑机构上,动力机构与上料机构、下料机构均连接,上料机构包括上、下均开口的集料框,集料框的下端呈漏斗状,集料框的角点上设有与支撑机构连接的支撑柱,集料框的两个相对的侧端均转动连接有摆臂,两个摆臂的上端之间固定连接有位于集料框上方的承载框,两个摆臂的下端之间固定连接有位于集料框下方的承载框,两个承载框上均可拆卸连接有布料板,布料板上端设有布料槽,布料槽的底部设有若干呈矩阵分布的阶梯状的布料孔,布料板的中部设有负压腔,布料孔均与负压腔连通,上料机构的其中一个摆臂连接有偏心摆杆,偏心摆杆与动力机构连接,动力机构与负压腔连通并提供负压。
2.根据权利要求1所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述下料机构包括撞击板,撞击板的一端固定有竖向的支板、相对的另一端固定有竖向的排气板,支板和排气板的底端均固定在支撑机构上,撞击板内部设有若干呈矩阵分布的收纳腔,收纳腔内设有导磁的撞击件,撞击件贯穿撞击板的底部,撞击板的上端滑动连接有磁铁条。
3.根据权利要求2所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述支撑机构为支撑板,所述动力机构为竖向安装的双轴伸电机,双轴伸电机的一端穿过支撑板后与所述偏心摆杆连接,双轴伸电机的另一端连接有负压叶轮,负压叶轮安装于负压箱内,负压箱的进气端连接有负压接头,负压接头上设有至少四个负压接口,每个负压接口均通过软管与布料板的负压腔连通。
4.根据权利要求3所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述负压箱的排气端连接有主排气管,主排气管上通过三通阀连接有支排气管,支排气管位于支撑板的下方,所述排气板内部设有竖向的空腔,空腔内滑动连接有浮板,排气板的顶端侧壁上开有排气口,排气口上边沿与排气板顶端内壁的距离等于浮板的厚度,排气板的底端与主排气管连通,浮板连接有拉索,拉索与所述磁铁条固定连接,磁铁条与所述支板之间连接有拉簧。
5.根据权利要求4所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述撞击件包括滑动连接在收纳腔内的导磁板,导磁板的底端固定连接有撞针,收纳腔的底部设有贯穿到撞击板外侧的通道,撞针穿设在通道内,导磁板的横截面积大于通道的横截面积,导磁板的底端与收纳腔的底壁之间设有套设在撞针外的压簧。
6.根据权利要求5所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述排气板朝向支板的侧端设有过孔,过孔内设有密封块,密封块上设有穿孔,拉索穿过穿孔连接在浮板的底端,过孔位于撞击板的上方,排气板内部对应撞击板的高度位置设有限位凸起,浮板位于限位凸起上方。
7.根据权利要求6所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:所述偏心摆杆与双轴伸电机之间连接有谐波减速器。
8.根据权利要求1-7任一所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:集料框的两个相对的侧端与摆臂之间的转动连接为球铰连接。
9.根据权利要求8所述的半导体焊片排布装置,其特征在于:位于集料框的下方的承载框的下方设有接料盘,位于接料盘下方的支撑柱之间连接有支撑框,接料盘置于支撑框上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





