[发明专利]一种太阳能电池及其制备方法在审
| 申请号: | 201811625506.6 | 申请日: | 2018-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN111384242A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
| 发明(设计)人: | 罗轶;李琳琳;宋士佳 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/48;B82Y20/00 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;罗瑞芝 |
| 地址: | 102200 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种太阳能电池,包括n型氮化物半电池,其特征在于,还包括p型钙钛矿半电池,所述p型钙钛矿半电池设置于所述n型氮化物半电池上,所述n型氮化物半电池和所述p型钙钛矿半电池构成异质结。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述n型氮化物半电池包括单晶衬底、n型氮化镓层、应力释放层和量子阱层,沿远离所述衬底的方向,所述n型氮化镓层、所述应力释放层和所述量子阱层依次叠置。
3.根据权利要求2所述的太阳能电池,其特征在于,所述p型钙钛矿半电池包括钙钛矿吸收层和空穴传输层,沿远离所述衬底的方向,所述钙钛矿吸收层和所述空穴传输层依次叠置于所述量子阱层上。
4.根据权利要求3所述的太阳能电池,其特征在于,所述n型氮化镓层中形成有贯穿其厚度的穿透位错,所述应力释放层中对应在所述穿透位错的正上方形成有V型凹槽,所述V型凹槽还向远离所述衬底的方向延伸至贯通所述量子阱层;
所述钙钛矿吸收层覆盖所述量子阱层,且所述钙钛矿吸收层材料充满所述V型凹槽。
5.根据权利要求4所述的太阳能电池,其特征在于,所述V型凹槽的开口尺寸范围为0~1μm;所述V型凹槽的深度尺寸范围为0~1μm。
6.根据权利要求2所述的太阳能电池,其特征在于,所述量子阱层包括由InxGa1-xN量子阱层和GaN量子垒层相互叠置构成的叠层单元,其中,0x0.5。
7.根据权利要求6所述的太阳能电池,其特征在于,所述叠层单元的数量为10~100个。
8.一种如权利要求1-7任意一项所述的太阳能电池的制备方法,包括制备n型氮化物半电池,其特征在于,还包括在所述n型氮化物半电池上制备p型钙钛矿半电池。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述制备n型氮化物半电池包括:
将单晶衬底在200~1000℃下通入氢气进行清洗;
在所述衬底上生长n型氮化镓层,同时所述n型氮化镓层与所述衬底之间的应力作用在所述n型氮化镓层中生成贯穿其厚度的穿透位错;其中,所述n型氮化镓层的生长温度范围为900~1100℃,所述n型氮化镓层n型掺杂的掺杂浓度范围为1×1017cm-3~1×1019cm-3;
在所述n型氮化镓层上生长应力释放层,同时所述n型氮化镓层与所述衬底之间的应力作用在所述应力释放层中形成V型凹槽;
在所述应力释放层上生长量子阱层,同时所述n型氮化镓层与所述衬底之间的应力作用使所述V型凹槽延伸至贯通所述量子阱层;
在N2和NH3或者H2和NH3混合气体氛围中退火烤掉部分所述V型凹槽斜面上的所述量子阱层材料;其中退火温度范围为700℃~1200℃;
将制备形成的所述n型氮化物半电池冷却至室温。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述制备p型钙钛矿半电池包括:
在冷却至室温的所述n型氮化物半电池的所述量子阱层上旋涂PbI2的DMF溶液,自然晾干;再在所述量子阱层上旋涂CH3NH3I的异丙醇溶液,在150℃下退火30分钟,形成钙钛矿吸收层;
取重均分子量50000g/mol,规整度大于95%的P3HT,溶于1,2-二氯苯溶液中,溶液浓度5mg/ml,将所述溶液旋涂在所述钙钛矿吸收层上,形成空穴传输层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





