[发明专利]PERC太阳电池及其制备方法在审
| 申请号: | 201811585689.3 | 申请日: | 2018-12-25 |
| 公开(公告)号: | CN109698246A | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
| 发明(设计)人: | 王霆;芦政;其他发明人请求不公开姓名 | 申请(专利权)人: | 嘉兴尚能光伏材料科技有限公司;苏州大学 |
| 主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/04;H01L31/18 |
| 代理公司: | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 | 代理人: | 袁丽花 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉兴市秀洲*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 介质层 硅片 光电转换效率 第二表面 第一表面 复合结构 钝化层 制备 金属纳米颗粒 长波响应 电池正面 硅片表面 相对设置 反射率 光吸收 阵列层 背面 电池 | ||
1.一种PERC太阳电池,其特征在于,所述PERC太阳电池包括硅片及位于硅片表面的复合结构,所述硅片包括相对设置的第一表面和第二表面,第一表面下方形成有PN结,所述复合结构包括位于硅片第二表面上的钝化层、位于钝化层上的介质层、及位于介质层内或介质层表层的金属纳米颗粒阵列层。
2.根据权利要求1所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述复合结构包括位于硅片第二表面上的钝化层、及位于钝化层上的介质层,所述金属纳米颗粒阵列层位于介质层的上表层和/或下表层上。
3.根据权利要求1所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述复合结构包括位于硅片第二表面上的钝化层、位于钝化层上的第一介质层、及位于第一介质层上的第二介质层,所述金属纳米颗粒阵列层位于第一介质层和第二介质层之间。
4.根据权利要求2所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述钝化层包括SiNx、SiO2、Al2O3中的一种或多种,钝化层的厚度为1~100nm,所述介质层包括SiNx、SiO2、SiOxNy、Al2O3、TiO2中的一种或多种,介质层的厚度为1~100nm。
5.根据权利要求3所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述钝化层包括SiNx、SiO2、Al2O3中的一种或多种,钝化层的厚度为1~100nm,所述第一介质层包括SiNx、SiO2、SiOxNy、Al2O3、TiO2中的一种或多种,第一介质层的厚度为1~100nm,所述第二介质层包括SiNx、SiO2、SiOxNy、Al2O3、TiO2中的一种或多种,第二介质层的厚度为1~100nm。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述金属纳米颗粒阵列层包括Ag、Cu、Au、Pt、Al纳米颗粒中的一种或多种,金属纳米颗粒的平均尺寸范围为1~200nm,金属纳米颗粒的平均间距为1~500nm。
7.根据权利要求1所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述硅片的第一表面上设有减反层,所述减反层包括SiNx、SiO2、SiOxNy、Al2O3、TiO2中的一种或多种,减反层的厚度为1~100nm。
8.根据权利要求1所述的PERC太阳电池,其特征在于,所述硅片为单晶硅片、类单晶硅片、多晶硅片或直接硅片,硅片的厚度范围为20μm~200μm。
9.一种PERC太阳电池的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
S1、对硅片进行扩散制备PN结;
S2、在硅片的第二表面上制备复合结构,所述复合结构包括位于硅片第二表面上的钝化层、位于钝化层上的介质层、及位于介质层内或介质层表层的金属纳米颗粒阵列层;
S3、在硅片的第一表面和/或第二表面上制备电极。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1前还包括:
将硅片放入碱溶液或酸溶液中去除硅片表面损伤层,并在硅片的第一表面上制备绒面结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





