[发明专利]一种发光二极管芯片及其制作方法在审
| 申请号: | 201811567405.8 | 申请日: | 2018-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN109786533A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
| 发明(设计)人: | 尹灵峰;魏柏林;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 主干 焊盘 绝缘层 发光二极管芯片 方向延伸 半导体技术领域 依次层叠 衬底 减小 源层 遮挡 制作 发光 芯片 吸收 | ||
本发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层、N型电极、P型电极和绝缘层;P型电极包括焊盘部分、主干手指和多个分支手指,P型电极的焊盘部分和多个分支手指均设置在P型半导体层上,绝缘层和主干手指依次层叠在所述凹槽内的N型半导体层上,主干手指的一端与所述P型电极的焊盘部分连接,主干手指的另一端向远离P型电极的焊盘部分的方向延伸,各个分支手指的一端分别与主干手指连接,各个分支手指的另一端向远离主干手指的方向延伸。本发明可以减小P型半导体层上设置的手指部分的面积,减少P型电极遮挡和吸收的光线,提升LED芯片的发光亮度。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种发光二极管芯片及其制作方法。
背景技术
发光二极管(英文:Light Emitting Diode,简称:LED)是一种能发光的半导体电子元件。芯片是LED的核心组件。
现有的LED芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层、P型电极和N型电极,N型半导体层、有源层和P型半导体层依次层叠在衬底上,P型半导体层上设有延伸至N型半导体层的凹槽,N型电极设置在凹槽内的N型半导体层上,P型电极设置在P型半导体层上。
N型电极和P型电极均包括焊盘部分和手指部分。焊盘部分实现电流的注入。手指部分的一端与焊盘部分连接,手指部分的另一端向远离焊盘部分的方向延伸,以使电流均匀注入N型半导体层或者P型半导体层。
在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:
P型电极的材料会遮挡和吸收有源层发出的光线,而P型电极的手指部分为了实现电流的均匀注入,会分布在整个P型半导体层上,遮挡和吸收的光线较多,对LED芯片的出光影响较大,导致LED芯片的发光亮度降低。
发明内容
本发明实施例提供了一种发光二极管芯片及其制作方法,能够解决现有技术P型电极的手指部分遮挡和吸收的光线较多,导致LED芯片发光亮度降低的问题。所述技术方案如下:
一方面,本发明实施例提供了一种发光二极管芯片,所述发光二极管芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层、N型电极、P型电极和绝缘层;所述N型半导体层、所述有源层和所述P型半导体层依次层叠在所述衬底上,所述P型半导体层上设有延伸至所述N型半导体层的凹槽;所述N型电极设置在所述凹槽内的N型半导体层上,所述N型电极包括焊盘部分和手指部分,所述手指部分的一端与所述N型电极的焊盘部分连接,所述手指部分的另一端向远离所述N型电极的焊盘部分的方向延伸;所述P型电极包括焊盘部分、主干手指和多个分支手指,所述P型电极的焊盘部分和所述多个分支手指均设置在所述P型半导体层上,所述绝缘层和所述主干手指依次层叠在所述凹槽内的N型半导体层上,所述主干手指的一端与所述P型电极的焊盘部分连接,所述主干手指的另一端向远离所述P型电极的焊盘部分的方向延伸,各个所述分支手指的一端分别与所述主干手指连接,各个所述分支手指的另一端向远离所述主干手指的方向延伸。
可选地,所述主干手指与所述手指部分平行。
优选地,所述主干手指和所述手指部分之间的距离为1μm~20μm。
更优选地,所述手指部分与所述发光二极管芯片的边缘之间的距离为1μm~50μm。
可选地,所述多个分支手指间隔设置在所述主干手指的同一侧。
优选地,所述多个分支手指相互平行。
进一步地,相邻两个所述分支手指之间的距离为定值。
优选地,所述定值为20μm~200μm。
可选地,每个所述分支手指与所述分支手指和所述P型电极的焊盘部分之间的主干手指之间的夹角为钝角。
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